循环伏安溶出技术（CVS）是目前酸性镀铜体系中定量监控有机添加剂的行业基准。该方法已被全球主要镀液供应商纳入工艺规范，并在 PCB、先进封装及电解铜箔等高端制造环节实现标准化应用。
CVS 可精.准解析电镀槽液中抑制剂、光亮剂与整平剂三大关键组分的浓度，为铜沉积层的宏观均匀性、微观平整度及目标厚度提供实时、可量化的化学保障。
无论您的检测需求如何——我们都能提供非常适配的解决方案
使用智能筛选系统，快速定位非常适合您的伏安极谱仪/CVS分析仪。
伏安极谱仪 – FAQs
可以。CVS 可准确测定低浓度添加剂。
镀液化学体系不同，电镀工艺不同，添加剂浓度亦各异；CVS 可覆盖相应添加剂及其浓度范围，并针对镀液体系和工艺要求优化测量参数，确保每种情况下结果准确。
用于痕量金属检测的非常适宜的伏安法系统具备多项特性，包括：
- 支持多种测量技术，如差分脉冲伏安法、方波伏安法、循环伏安法等
- 支持多种校准技术
- 配备便捷的操作软件，可实现分析、数据记录、自动化运行及报告生成功能
- 具备检测流程自动化的实现能力
- 灵活性强，可适配多种应用场景，且兼容各类工作电极的使用，例如滴汞电极、固态电极、旋转电极以及丝网印刷电极
支持。伏安法分析中，对系列样品进行自动化检测是十分常见的操作。开展自动化伏安法分析的非常适合的配置为 MVA-22 型系统。
该系统可对至多 28 个样品组成的样品系列完成自动化检测，同时能对分析池进行自动化清洗。