利用強大的 OMNIS 軟體實現全面掌控
OMNIS 軟體簡化了複雜的離子層析 ( IC ) 工作流程,同時確保分析過程中的全面掌控、透明度與合規性。
- 直覺的使用者體驗 : 清晰的圖示、工具提示及內建線上幫助提供操作指引,使操作簡單易行
- 工作系統理念 : 功能單元的模組化組合支援靈活的方法建立與便捷的方法轉移,並確保跨應用的一致性自動化
- 靈活智慧的方法設置,實現全自動化與最高安全性 : 平衡檢查、自動排氣 ( AutoPurge )、自動沖洗 ( AutoRinse )、自動重新校準及使用者自訂錯誤處理等進階功能,在簡化工作流程的同時,確保了高效可靠的運作
- 即時系統控制與監控 : 透過多流路監控 ( Multi Flow Monitoring )、液位控制及即時狀態追蹤進行持續監控,確保系統可靠性與正常運作時間
- 可視化控制與性能監控 : 「連接圖」( Connection Plan ) 清楚展示所有流路,便於系統設定與故障排查;控制圖與趨勢圖則支援即時性能追蹤、重複測定的穩定性檢查、QC 驗證及參考監控
- 進階資料評估與校準 : D動態整合設定與進階校準模式,結合符合 ASTM 標準的雜訊與位移評估,支援穩健的方法驗證及長期資料可靠性
- 全面可追溯性與合規性 : 具備軌跡紀錄、方法驗證及符合 GLP/FDA 要求的日誌記錄功能,確保流程安全合規