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KPM Analytics und Metrohm Deutschland gehen gemeinsame Wege
8. Sept. 2026

KPM Analytics und Metrohm Deutschland gehen gemeinsame Wege

pH-Messung - Grundlagen, Anforderungen, Einflussgrößen
Anwenderkurs für den 2060TI Process Analyzer
Neuer μSTAT-i 1020s Potentiostat
Anwenderkurs für 202X Process Analyzer
Grundlagen der Impedanzspektroskopie
Inline-Spektroskopie zur modernen Prozessführung
OMNIS Softwarekurs für Systemverantwortliche
Vollautomatisierte Kontrolle industrieller Prozesse
OMNIS NIR Software- und Anwenderkurs
Ablösung der Titrationssoftware tiamoTM
Einführung in die Cyclic Voltammetric Stripping (CVS)-Analyse
Die Laboreffizienz mit MiPT optimieren für flexibles und hochpräzises Probenhandling
Höhere Effizienz der CVS-Routineanalyse durch Probentransfer mittels Dosino
Launch des 2060 VA/CVS Process Analyzer
Markteinführung des 2060 XRF Process Analyzer
OMNIS NIRS eingeführt
Launch des OMNIS Coulometers und Sample Robot Oven
Einführung des 2060 Raman Analyzer
Neue Software-Version INTELLO 1.5 verfügbar
Eine thermische Achterbahnfahrt: Temperaturabhängigkeit bei CVS-Bestimmungen entschlüsseln
Relaunch der 202X Process Analyzer
Prozesskontrolle von stromlosen Ni-Beschichtungsbädern mit Hg-freien Sensoren
Halbleiterproduktion
Hochempfindliche Analyse von Aminen, organischen Säuren und anderen ionischen Substanzen mittels IC-MS
Qualitätskontrolle von Wafer-Vorbehandlungsprozessen in der Halbleiterindustrie mit Online-NIRS
Sparen Sie Zeit und Geld mit Metrohm Inline-Probenvorbereitungslösungen
Überwachung von chemischen Nickelbädern mittels Ionenchromatographie
Beyond Lab Automation – Wie die präziseste pH-Messung aus dem Labor in den Prozess integriert werden kann
Qualitätskontrolle und Optimierung von Beschichtungsverfahren in der Verchromung
Qualitätskontrolle und Optimierung von Beschichtungsverfahren mittels Ionenchromatographie (IC)
Guide to online and inline surface finishing analysis
Staircase-Scans oder lineare Scans: zwei Optionen für zuverlässige elektrochemische Experimente