Metrohm freut sich, Ihnen einen kostenlosen Überblick über Analysenmethoden zu präsentieren, die zur Überwachung kritischer QC-Parameter in der Halbleiterproduktion eingesetzt werden.

Die in dieser Übersicht vorgestellten Methoden werden zur Überwachung der Wasserreinheit, der Säuren in Ätzbädern, der Konzentration von Metallsalzen in Galvanikbädern und der ionischen Verunreinigungen eingesetzt. In diesem Dokument sind Hyperlinks zu zahlreichen Application Notes und mehreren White Papers eingefügt, so dass detaillierte Informationen zu den meisten dieser Anwendungen mit einem einzigen Mausklick verfügbar sind.

Für einen leichteren Zugang sind die Methoden nach den verschiedenen Phasen des Herstellungsprozesses gegliedert, von der Überwachung der Reinheit der Rohstoffe über das Ätzen, Beschichten, Verpacken auf Waferebene, das Verkapseln und Laminieren von Leiterplatten bis hin zur Überwachung der Rückgewinnung von Chemikalien und der Abwasseraufbereitung.

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