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高度な半導体デバイスおよびオプトエレクトロニクスを製造するためには、厳格な品質基準を満たすことが求められており、その実現には信頼性が高く、かつ高精度な分析装置が必要とされます。

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半導体デバイスの製造には、微量汚染物を除去するための高い品質基準が求められます。これらの汚染物は、ウェーハ欠陥の主な原因の一つとされています。半導体の製造効率を最適化し、歩留まりを向上させるためには、水の純度やエッチング液中の酸、メッキ液中の金属含有量、さらにはイオン性不純物のモニタリングが極めて重要です。

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微量分析は、分析装置および分析手法に特有の課題があります。これは、対象成分(分析対象物)の濃度が極めて低いために、マトリックス効果が通常よりも強く影響することが原因です。メトロームは、濃縮処理やマトリックス除去といった前処理技術を統合した分析ソリューションを提供することで、より高精度な分析を実現しております。

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メトロームは、ラボ分析および製造プロセスでの用途のいずれにおいても、最高品質の分析装置を提供しており、浴液組成のモニタリングから不純物の検出に至るまで、精密かつ信頼性の高い分析を実現します。
また、当社の専門知識と高品質なオンサイトサービスにより、半導体製造のサポートおよび更なる効率向上にも貢献いたします。

分析装置

メトロームは、微量イオン分析、金属汚染、エッチングおよびめっき液などに対応するロバストで高精度な分析ソリューションを提供し、半導体製造プロセスのあらゆる段階をサポートしております。

  1. CVS分析計  894プロフェッショナル CVS

    CVS分析計 894プロフェッショナル CVS

    CVS分析装置(サイクリックボルタンメトリックストリッピング分析装置)は、DT、MLAT、RCなどの各種方法を使用した硫酸銅めっき浴の有機添加物(サプレッサー、ブライトナー、レベラー)の測定を行います。サンプルチェンジャーを接続して連続自動分析も可能です。

  2. 自動滴定装置:OMNIS

    自動滴定装置:OMNIS

    メトロームのOMNIS(オムニス)自動滴定装置は、異なる滴定を1台で4種類同時に完全自動分析できるほか、分解能が最大10万分の1の電動ビュレットを装備、175検体連続測定可能など、今までにない新次元の自動滴定装置です。

  3. 940 IC Vario

    940 IC Vario

    940プロフェッショナルIC Vario は、アプリケーションに合わせて柔軟にモジュールを構成できるイオンクロマトグラフです。陰イオン・陽イオン同時分析も可能です。

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