利用最準確、最高效的實驗室技術進行超過 2,200 項最先進的應用，從中受益。
可靠且精確的分析儀對於滿足生產先進半導體 & 光電產品所需的嚴格品質參數至關重要
半導體生產需要嚴格的品質標準，以消除微量污染物，因為微量污染物是晶圓缺陷的主要原因。
監測水的純度、蝕刻液中的酸、電鍍液中的金屬含量或離子雜質對於優化半導體生產效率和提高良率至關重要。
微量分析對測量設備和分析方法是特殊的挑戰。由於分析物濃度低，基質效應通常會加劇。
Metrohm 提供整合的樣品前處理方案，例如預先濃縮或基質消除，以獲得最準確的結果。
Metrohm 提供適用於實驗室和線上製程的高品質分析儀器，確保從監測電解質等各環節檢測雜質的精準分析。
您還可以信賴我們的專業技術和一流的現場服務，為您的半導體生產提供支援和優化。
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自動化 CVS 方法開發及多成分電鍍液優化
下載這份白皮書，了解更多關於如何優化 CVS 方法以分析銅電鍍液的資訊。
產品
Metrohm 為半導體製程的每一步提供強大、高精度的分析解決方案，用於微量離子分析、金屬污染、蝕刻和電鍍液等。
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OMNIS客户端/服务器架构通过可扩展的服务器管理提升业务绩效，通过减少跨地点的硬件、能源消耗和维护成本来降低运营开支。
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