メトロームの分析装置でおこなわれた 2,200 件以上の最先端アプリケーションをご覧いただけます。
エレクトロニクスおよび半導体デバイスの製造においては、最終製品の品質を確保するために、精密かつ信頼性の高い分析装置が必要とされます。
電子部品および半導体デバイスが組み込まれていなければ、私たちのデジタル社会は成り立たないと言っても過言ではありません。
ウェハの準備から半導体デバイスの先進パッケージング、最終的な電子機器に至るまで、メトロームの分析装置は、生産チェーン全体にわたり品質と性能の確保に使用されています。
メトロームは、80ヶ国以上に展開し、50を超える直接子会社および30の専属代理店を有しております。これらの広範なグローバルネットワークをご活用いただけます。
最新の分析方法を紹介
OMNIS NIRS: An efficiency boost for your laboratory
Download this White Paper to learn more about how the integration of NIR spectroscopy into your quality process can boost your laboratory efficiency.
分析装置
メトロームは、エレクトロニクスおよび半導体産業向けに信頼性の高い分析ソリューションを提供しており、厳格な品質基準の遵守、材料の完全性の確保、製造プロセスの最適化をサポートしております。
自動滴定装置：OMNIS
メトロームのOMNIS（オムニス）自動滴定装置は、異なる滴定を1台で4種類同時に完全自動分析できるほか、分解能が最大10万分の１の電動ビュレットを装備、175検体連続測定可能など、今までにない新次元の自動滴定装置です。
940 IC Vario
940プロフェッショナルIC Vario は、アプリケーションに合わせて柔軟にモジュールを構成できるイオンクロマトグラフです。陰イオン・陽イオン同時分析も可能です。
2060プラットフォーム (プロセス用オンライン分析計)
モジュールを組み合わせることで、滴定、水分、pH、導電率、イオンクロマトグラフ、近赤外分析、吸光度、ラマン分光、蛍光X線、などの測定が、24時間 / 365日モニタリングできるオンライン分析計（プロセス分析計）シリーズ
- WP-097なぜOMNISクライアント／サーバー（C/S）に切り替えるべきなのか？
OMNISクライアント/サーバーは、拡張性のあるサーバー管理により業務効率を向上させ、拠点全体のハードウェア、エネルギー使用量、保守コストを削減することでコスト削減を実現します。
- AB-344Automated analysis of etch acid mixtures for silicon substrates with thermometric titration
This bulletin deals with the automated determination of mixtures of HNO3, HF and H2SiF6 in the range of approximately 200-600 g/L HNO3, 50-160 g/L HF, and 0-185 g/L H2SiF6 using thermometric titration.Etch acid mixtures containing HNO3, HF and H2SiF6 from the etching of silicon substrates can be analyzed in a sequence of two determinations using the 859 Titrotherm. The first determination involves a direct titration with standard c(NaOH) = 2 mol/L, followed by a back titration with c(HCl) = 2 mol/L. This determination yields the H2SiF6 content plus a value for the combined (HNO3+HF) contents. The second determination consists of a titration with c(Al3+) = 0.5 mol/L to determine the HF content. For freshly made up mixtures of HNO3 and HF containing no H2SiF6, a linked two-titration sequence is employed. Results from the two determinations are used by tiamoTM to yield individual results for HNO3, HF and H2SiF6.
- AN-H-140Titration of phosphoric, nitric, and acetic acid mixtures
Nitric acid, phosphoric acid, and acetic acid are easily determined in etching baths using thermometric titration (TET). Compared to potentiometric titration, TET is faster and more convenient. Analysis is complete in less than two minutes.
- AN-V-199金めっき浴中の金（Au(I)）のボルタンメトリーによる定量
高品質な金めっきを実現するためには、金めっき浴中の一価金（Au(I)）濃度を適切に管理することが重要です。" Multi-Mode Electrode Pro " を用いたボルタンメトリー分析は、そのための効率的な分析手法です。
- AN-PAN-1067銅めっきプロセスにおける有機添加剤のオンライン分析
銅めっき浴における有機添加剤のモニタリングは重要です。2060 CVSプロセスアナライザーは、精密な浴制御を提供することで銅電気めっきを最適化します。
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