Electrónica y Semiconductores

OMNIS Client/Server aumenta el rendimiento empresarial con una gestión de servidores escalable, reduciendo costos al disminuir el hardware, el uso de energía y el mantenimiento en todas las ubicaciones.

Este boletín trata de la determinación automatizada de mezclas de HNO3, HF y H2SiF6 en el rango de aproximadamente 200-600 g/L de HNO3, 50-160 g/L de HF, y 0-185 g/L de H2SiF6 usando titulación termométrica.Las mezclas de ácidos de grabado que contienen HNO3, HF y H2SiF6 del grabado de sustratos de silicio pueden analizarse en una secuencia de dos determinaciones usando el 859 Titrotherm. La primera determinación implica una titulación directa con el estándar c(NaOH) = 2 mol/L, seguida de una titulación en retroceso con c(HCl) = 2 mol/L. Esta determinación da el contenido de H2SiF6 más un valor para el contenido combinado (HNO3+HF). La segunda determinación consiste en una valoración con c(Al3+) = 0,5 mol/L para determinar el contenido de HF. Para mezclas recién preparadas de HNO3 y HF que no contengan H2SiF6, se emplea una secuencia enlazada de dos titulaciones. Los resultados de las dos determinaciones se utilizan mediante tiamoTM para obtener resultados individuales de HNO3, HF y H2SiF6.

El ácido nítrico, el ácido fosfórico y el ácido acético se determinan fácilmente en baños de grabado mediante titulación termométrica (TET). En comparación con la titulación potenciométrica, la TET es más rápida y más conveniente. El análisis se completa en menos de dos minutos.

El control de los niveles de Au(I) en los baños de enchapado en oro es necesario para lograr una alta calidad. El análisis voltamperométrico con Multi-Mode Electrode Pro es una solución eficiente.

El control de los aditivos orgánicos en los baños de cobre es fundamental. El analizador de procesos CVS 2060 optimiza la galvanoplastia de cobre proporcionando un control preciso del baño.