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Elettronica e semiconduttori
La produzione di componenti elettronici e semiconduttori richiede analizzatori precisi e affidabili per garantire la qualità del prodotto finale
Senza componenti elettronici e semiconduttori integrati, il nostro mondo digitale resterebbe fermo.
Dalla preparazione dei wafer al confezionamento avanzato dei semiconduttori e ai dispositivi elettronici finali, gli strumenti analitici Metrohm vengono utilizzati per garantire qualità e prestazioni lungo tutta la catena di produzione.
Approfitta della nostra ampia presenza globale, operando in oltre 80 paesi con più di 50 filiali e 30 distributori esclusivi.
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OMNIS NIRS: un aumento dell'efficienza per il tuo laboratorio
Scarica questo white paper per saperne di più su come l'integrazione della spettroscopia NIR nel tuo processo di qualità può aumentare l'efficienza del tuo laboratorio.
Prodotti
Metrohm fornisce soluzioni analitiche affidabili, studiate appositamente per il settore dell'elettronica e dei semiconduttori, aiutandoti a soddisfare rigorosi standard di qualità, garantire l'integrità dei materiali e ottimizzare il processo produttivo.
Titolatori OMNIS
Piattaforma di titolazione automatica potenziometrica all-in-one: risultati più rapidi, manipolazione più sicura delle sostanze chimiche e massima modularità per una più facile adattabilità alle tue esigenze.
940 Professional IC Vario
Un solo strumento - la flessibilità definitiva: cromatografo ionico con praticamente nessun limite alla sua configurazine e personalizzazione.
Piattaforma 2060
La piattaforma robusta e affidabile di analizzatori modulari per la massima flessibilità nel monitoraggio dei processi personalizzato.
- WP-097Perchè passare a OMNIS Client/Server (C/S)?
OMNIS Client/Server incrementa le prestazioni aziendali grazie alla gestione scalabile dei server, riducendo i costi grazie alla riduzione dell'hardware, del consumo energetico e della manutenzione in tutte le sedi.
- AB-344Analisi automatizzata di miscele di acidi di attacco per substrati di silicio con titolazione termometrica
Questo bollettino riguarda la determinazione automatizzata di miscele di HNO3, HF e H2SiF6 nell'intervallo di circa 200-600 g/L HNO3, 50-160 g/L HF e 0-185 g/L H2SiF6 utilizzando la titolazione termometrica. Le miscele di acidi di attacco contenenti HNO3, HF e H2SiF6 dall'attacco di substrati di silicio possono essere analizzate in una sequenza di due determinazioni utilizzando il Titrotherm 859. La prima determinazione prevede una titolazione diretta con lo standard c(NaOH) = 2 mol/L, seguita da una titolazione di ritorno con c(HCl) = 2 mol/L. Questa determinazione produce il contenuto di H2SiF6 più un valore per i contenuti combinati (HNO3+HF). La seconda determinazione consiste in una titolazione con c(Al3+) = 0,5 mol/L per determinare il contenuto di HF. Per le miscele di HNO3 e HF appena preparate, prive di H2SiF6, viene utilizzata una sequenza di due titolazioni concatenate. I risultati delle due determinazioni vengono utilizzati da tiamoTM per ottenere risultati individuali per HNO3, HF e H2SiF6.
- AN-H-140Titolazione di miscele di acido fosforico, nitrico e acetico
Acido nitrico, acido fosforico e acido acetico sono facilmente determinabili nei bagni di incisione utilizzando la titolazione termometrica (TET). Rispetto alla titolazione potenziometrica, la TET è più rapida e pratica. L'analisi è completa in meno di due minuti.
- AN-V-199Determinazione voltammetrica dell'oro(I) nei bagni di doratura
Il controllo dei livelli di Au(I) nei bagni di doratura è necessario per garantire un'elevata qualità. L'analisi voltammetrica con il Multi-Mode Electrode Pro è una soluzione efficiente.
- AN-PAN-1067Analisi online degli additivi organici nel processo di placcatura del rame
Il monitoraggio degli additivi organici nei bagni di ramatura è fondamentale. 2060 CVS Process Analyzer ottimizza la galvanica del rame fornendo un controllo preciso del bagno.
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