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Les potentiels de demi-vague ou de pic de 90 ions métalliques sont répertoriés dans les tableaus ci-après. Les potentiels de demi-vague (exprimés en volt) sont mesurés à l'électrode à goutte de mercure tombante (DME) à 25 °C, sauf indications contraires.

Ce bulletin décrit des méthodes de titrage potentiométrique relatives au contrôle des bains pour l'oxydation anodique à lacide sulfurique et à lacide chromique. A côté des composants principaux, tels que l'aluminium, l'acide sulfurique et l'acide chromique, le chlorure, l'acide oxalique et le sulfate sont également déterminés.

On sait depuis des années qu'une consommation excessive de nitrates provenant des aliments peut entraîner une cyanose, en particulier chez les jeunes enfants et les adultes sensibles. Selon la norme de l'OMS, le niveau de danger se situe à une concentration massique de c(NO3-) ≥ 50 mg/L. Cependant, des études plus récentes ont montré que lorsque les concentrations de nitrates dans le corps humain sont trop élevées, elles peuvent (via le nitrite) entraîner la formation de nitrosamines cancérigènes et même plus dangereuses.Les procédés photométriques connus pour la détermination de l'anion nitrate prennent du temps et sont sujets à une large gamme d'interférences. Avec l'importance croissante de l'analyse des nitrates, la demande d'une méthode sélective, rapide et relativement précise a également augmenté. Une telle méthode est décrite dans cet Application Bulletin. L'annexe contient une sélection d'exemples d'application où les concentrations de nitrate ont été déterminées dans des échantillons d'eau, des extraits de sol, des engrais, des légumes et des boissons.

La détermination titrimétrique du chlorure est, à côté des titrages acide-base, une des méthodes d'analyse titrimétriques les plus fréquemment utilisées. Elle est pratiquée, plus ou moins souvent, dans presque tous les laboratoires. Ce bulletin montre comment déterminer le chlorure dans différentes gammes de concentration, utilisant des titreurs automatiques. Le nitrate d'argent est normalement utilisé comme réactif de titrage (pour des raisons de protection de l'environnement, il est conseillé d'éviter toute utilisation de nitrate de mercure). La concentration du réactif de titrage dépend de la teneur en chlorure de l'échantillon à analyser. Pour les teneurs en chlorure faibles, il est fondamental de vouer une attention toute particulière au choix de l'électrode.

Ce bulletin décrit une procédure permettant de déterminer le molybdène dans les aciers et autres matériaux fortement ferrugineux. Grâce à la polarographie catalytique, le Mo(VI) est déterminé à l'électrode à goutte de mercure. La limite de détermination est de l'ordre de 10 μg/L Mo(VI).

Dans la plupart des électrolytes, les potentiels de pic du plomb et de l'étain sont si proches l'un de l'autre qu'une détermination par voltampérométrie est impossible. Des difficultés apparaissent particulièrement lorsque l'un des métaux est présent en excès.La méthode 1 décrit la détermination du Pb et du Sn. La voltampérométrie inverse anodique (ASV) est utilisée après addition de bromure de cétyltriméthylammonium. Cette méthode est avant tout utilisée quand :• on est surtout intéressé par le Pb• Le Pb se trouve en excès dans la solution• Le rapport Sn/Pb n'excède pas 200:1Selon la méthode 1, il est possible de déterminer le Pb et le Sn simultanément si la différence entre les deux concentrations n'est pas trop importante et si du Cd est absent. La méthode 2 est utilisée lorsque du Sn et du Pb sont présents dans la gamme des traces et que des ions perturbateurs Tl et/ou Cd sont présents. Cette méthode utilise également la technique DPASV dans un tampon d'oxalate, avec addition de bleu de méthylène.

La thiourée forme avec le mercure des composés hautement insolubles. Les vagues anodiques résultantes sont utilisées pour la détermination polarographique de la thiourée. Pour la détermination de très faibles quantités (µg/L), la voltampérométrie inverse cathodique (CSV) est utilisée. Dans les deux cas, le mode de mesure Differential Pulse est utilisé.

Le formaldéhyde peut être déterminé par réduction sur la DME. En fonction de la composition de l'échantillon, il peut être possible de déterminer le formaldéhyde directement dans l'échantillon. En présence d'interférences, une préparation de l'échantillon peut être nécessaire, comme une absorption, une extraction ou une distillation. Deux méthodes sont décrites. Avec la première méthode, le formaldéhyde est directement réduit dans une solution alcaline. De fortes concentrations en métaux alcalins ou alcalino-terreux entraînent l'apparition d'interférences. Dans de tels cas, la deuxième méthode peut être utilisée. Le formalhéhyde est dérivatisé avec de l'hydrazine pour former l'hydrazone, laquelle peut être mesurée polarographiquement dans une solution acide.

Cet Application Bulletin décrit la détermination de suppresseur dans les bains de cuivre acides avec smartDT. La détermination du suppresseur par titrage de dilution (Dilution Titration, DT) exige de nombreuses additions de solutions standard ou d'échantillon pour atteindre le rapport d'évaluation. En règle générale, la détermination s'opère selon des volumes ajoutés à une même cadence fixe. smartDT utilise des volumes d'additions variables calculés de manière dynamique par le logiciel. Au début, les volumes sont plus grands. En se rapprochant du rapport d'évaluation, les volumes deviennent plus petits afin d'assurer l'exactitude des résultats. L'utilisateur définit le premier volume et le plus petit volume ajouté. Tous les autres volumes sont calculés en tenant compte de la progression de l'analyse.Comparé à la DT classique, le temps gagné grâce à smartDT est de 20 à 40 % par détermination.smartDT est idéal pour la régression non-linéaire et quadratique ainsi que pour l'interpolation linéaire. Il peut être utilisé pour la détermination de suppresseur dans les bains de cuivre acides ainsi que les bains d'étain et de zinc. Des électrodes de travail de Pt de 1, 2 et 3 mm peuvent être utilisées.Un 800 Dosino est requis pour l'addition automatisée de la solution standard de suppresseur ou d'échantillon. Cette méthode peut être également intégrée à des systèmes de CVS entièrement automatisés.

Le cuivre est probablement l'un des métaux les plus importants sur le plan technologique, notamment dans l'industrie des semi-conducteurs. Le processus de déposition mis en œuvre dans l'industrie est connu sous le nom de procédé « double damascène » et comporte une électrodéposition du cuivre depuis un composé de cuivre acide en présence d'additifs.Cette Application Note décrit comment l'électrode tournante à disque et à anneau (Rotating Ring Disc Electrode) d'Autolab peut servir à l'analyse de l'électrodéposition du cuivre et à la détection du produit intermédiaire Cu+.

Détermination de l'ion cuivreux en présence de l'ion ferreux dans des solutions de lixiviation de cuivre.

Détermination d'acide libre dans des solutions de raffinage du cuivre.

Détermination de Fe3+ et Cu2+ dans des solutions de raffinage du cuivre par titrage thermométrique. Il a été découvert que la méthode conventionnelle de masquage de Fe3+ pour la détermination iodométrique de Cu2+ dans certaines solutions de raffinage du cuivre est impossible.

Détermination du nitrate dans un bain galvanique au cuivre après conversion du nitrate en ammonium. Mesure par potentiométrie directe utilisant le NH3-ISE.

Monitoring organic additives in copper plating baths is crucial. The 2060 CVS Process Analyzer optimizes copper electroplating by providing precise bath control.

Pour obtenir le beau brillant des surfaces traitées, des brillanteurs spéciaux sont ajoutés aux bains galvaniques. La concentration en additifs brillanteurs doit toujours demeurer constante afin de garantir une qualité homogène du produit final. Cette Application Note décrit comment déterminer les brillanteurs parallèlement par la CI et la CVS. Vous trouverez l'application CVS correspondante sous AN-V-183.

Détermination de cyanure dans des bains galvaniques alcalins par titrage potentiométrique au nitrate d'argent utilisant la Ag-Titrode.

Détermination d'hydroxyde et de carbonate dans des bains galvaniques alcalins par titrage potentiométrique avec HCl utilisant l'électrode en verre combinée.

Détermination de cadmium, cuivre, plomb et zinc dans des bains galvaniques alcalins par titrage potentiométrique avec EDTA utilisant Cu-ISE.

Les bains de cuivre acides sont principalement utilisés pour le dépôt de cuivre sur les tranches de semi-conducteurs. De petites quantités de chlorure augmentent la vitesse de dépôt et réduisent la polarisation de l'anode. Cependant, des concentrations plus élevées ne sont pas souhaitables, car elles diminuent la qualité du dépôt de cuivre. Il est donc très important de contrôler la quantité de chlorure pour obtenir un processus de dépôt de cuivre efficace et de haute qualité. Cette note d'application présente une solution entièrement automatisée basée sur le titrage. Par rapport à la chromatographie ionique, le titrage présente l'avantage de ne pas nécessiter de dilution de l'échantillon et le matériel est comparativement peu coûteux. En outre, la solution entièrement automatisée permet aux utilisateurs de minimiser les erreurs de manipulation, de réduire la charge de travail et de garantir une reproductibilité exceptionnelle.

Les procédés de galvanoplastie sont utilisés dans plusieurs secteurs industriels différents pour protéger la qualité de la surface de divers produits contre la corrosion ou l'abrasion et améliorer de manière significative leur durée de vie. Il est essentiel de vérifier régulièrement la composition du bain pour s'assurer que le processus fonctionne correctement. Parmi les exemples typiques de bains de galvanoplastie figurent les bains de dégraissage alcalins ou les bains acides ou alcalins contenant des métaux tels que le cuivre, le nickel ou le chrome, ou des composants tels que le chlorure et le cyanure. Il est essentiel que la technique d'analyse choisie réponde à des normes de sécurité élevées pour ce type d'analyses et produise des résultats fiables. Le système OMNIS Sample Robot pipette et analyse automatiquement les échantillons de bains galvaniques agressifs sur différents postes de travail, augmentant ainsi la sécurité dans le laboratoire. Il fournit des résultats plus fiables que le titrage manuel et permet de gagner du temps car différents paramètres peuvent être analysés en parallèle.

Détermination du suppresseur «Copper GleamTM 2001 Carrier dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination du brillanteur «Copper GleamTM 2001 Additive» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination du suppresseur «Cupracid BL-CT» dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination du brillanteur «Cupracid BL» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination de Supressor «Cupraspeed» dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination du brillanteur «Cupraspeed» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination de la concentration en Sb (total) dans un bain de Cu acide par voltampérométrie inverse anodique avec l'acide chlorhydrique comme électrolyte. En raison de l'excès de Cu le potentiel de déposition doit être choisi seulement 50 mV plus négatif que le signal Sb.

Détermination du suppresseur «MACuSpecTM PPR 100 Wetter» dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination du brillanteur «MACuSpecTM PPR 100 Brightener» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination du suppresseur «MultiBondTM 100 Part A20 dans un bain de cuivre acide par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination de Supressor «InPulse H6» dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination du brillanteur «InPulse H6» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse pulsée (CPVS).

Détermination du suppresseur «Thru-Cup EVF-B» dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination du brillanteur «Thru-Cup EVF-1A» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination de Leveler «Thru-Cup EVF-R» dans des bains de cuivre acides par technique de courbe de réponse (RC) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination de la concentration Cu dans un bain de Cu cyanuré par polarographie.

Détermination du suppresseur «Top Lucina α-M» dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination du brillanteur «Top Lucina α-2» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

Détermination de Leveler «Top Lucina α-3» dans des bains de cuivre acides par technique de courbe de réponse (RC) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).

La détermination du suppresseur par titrage de dilution (Dilution Titration, DT) exige de nombreuses additions de solutions standard ou d'échantillon pour atteindre le rapport d'évaluation. En règle générale, la détermination s'opère selon des volumes ajoutés à une même cadence fixe. smartDT utilise des volumes d'additions variables automatiquement calculés par le logiciel. Au début, les volumes sont plus grands. En se rapprochant du rapport d'évaluation, les volumes deviennent plus petits afin d'assurer l'exactitude des résultats. L'utilisateur définit le premier volume et le plus petit volume ajouté. Tous les autres volumes sont calculés en tenant compte de la progression de l'analyse. La mise en œuvre de smartDT avec volumes ajoutés intelligemment accélère considérablement la détermination du suppresseur, et ce, en délivrant la même précision, voire une meilleure, que la DT classique. Le temps gagné par détermination est de 20 à 40 %.

Cette Application Note décrit la détermination polarographique du cuivre dans des bains galvaniques utilisés dans la production de cellules photovoltaïques à couche mince à base de di-séléniure de cuivre indium gallium (appelé CIGS). La couche absorbante CIGS est déposée par voie électrolytique sur un substrat revêtu d'une couche de molybdène.La détermination du cuivre est réalisée après dilution de l'échantillon avec de l'acide sulfurique comme électrolyte de base.

Cette Application Note décrit la détermination polarographique de l'indium dans des bains galvaniques utilisés dans la production de cellules photovoltaïques à couche mince à base de di-séléniure de cuivre indium gallium (appelé CIGS). La couche absorbante CIGS est déposée par voie électrolytique sur le substrat revêtu d'une couche de molybdène.La détermination de l'indium est réalisée après dilution de l'échantillon de bain avec de l'acide sulfurique comme électrolyte de base.

Cette Application Note décrit la détermination du gallium dans des bains galvaniques utilisés dans la production de cellules photovoltaïques à couche mince à base de di-séléniure de cuivre indium gallium (appelé CIGS). La couche absorbante CIGS est déposée par voie électrolytique sur un substrat revêtu d'une couche de molybdène.La détermination du gallium par voltampérométrie à redissolution anodique (ASV) est réalisée après dilution de l'échantillon avec de l'acide sulfurique comme électrolyte de base.

Cette Application Note décrit la détermination polarographique du sélénite dans des bains galvaniques utilisés dans la production de cellules photovoltaïques à couche mince à base de di-séléniure de cuivre indium gallium (appelé CIGS). La couche absorbante CIGS est déposée par voie électrolytique sur un substrat revêtu d'une couche de molybdène.La détermination du sélénite est réalisée après dilution de l'échantillon avec de l'acide sulfurique comme électrolyte de base.

brightRC enables reliable CVS (or CPVS) brightener quantification without repeated standard additions, especially for additive systems with nonlinear signal behavior. By using external response curve (RC) calibration and flexible regression, it avoids systematic errors inherent to linear standard addition methods and significantly reduces analysis time. This makes brightRC ideal for high throughput routine control in stable copper plating baths.

Depuis trois décennies, la CVS ou voltampérométrie cyclique inverse (Cyclic Voltammetric Stripping) est la pratique courante pour l’analyse des additifs organiques dans les bains d'électrodéposition de cuivre dans le secteur de la galvanisation des circuits imprimés et des wafers. Les variations dans la composition de ces bains ont fait naître un besoin d'optimisation des procédures de développement de méthodes. Les nouvelles avancées au niveau du matériel et des protocoles logiciels pour la CVS ont grandement simplifié le processus global d’optimisation des méthodes. Cette étude examine le processus d'optimisation de méthode en liaison avec ces protocoles.

La mesure des ions peut s'effectuer de différentes manières, par exemple par la chromatographie ionique (CI), la spectrométrie d'émission optique à plasma à couplage inductif (ICP-OES) ou la spectroscopie d'absorption atomique (SAA). Chacune de ces méthodes est bien établie et communément utilisée dans les laboratoires d'analyse. Toutefois, les coûts initiaux sont relativement élevés. La mesure des ions à l'aide d'une électrode ionique spécifique (EIS) se révèle être, au contraire, une alternative prometteuse à ces techniques coûteuses. Ce livre blanc explique les difficultés que l'on peut rencontrer lors d'une application d'addition standard ou de la mesure directe, et la manière de les surmonter afin que les analystes acquièrent une plus grande confiance dans ce type d'analyse.