Applications Cyclic Voltammetric Stripping (CVS)
Le stripping voltampérométrique cyclique (CVS) est une technique électrochimique utilisée pour analyser la teneur en additifs organiques dans les bains de placage. Nos experts ont compilé plusieurs documents d'application sur les applications CVS pour différents additifs.
- AN-PAN-1067Online analysis of organic additives in copper plating process
Monitoring organic additives in copper plating baths is crucial. The 2060 CVS Process Analyzer optimizes copper electroplating by providing precise bath control.
- AN-V-202Détermination de suppresseur dans les bains de cuivre acides avec smartDT
La détermination du suppresseur par titrage de dilution (Dilution Titration, DT) exige de nombreuses additions de solutions standard ou d'échantillon pour atteindre le rapport d'évaluation. En règle générale, la détermination s'opère selon des volumes ajoutés à une même cadence fixe. smartDT utilise des volumes d'additions variables automatiquement calculés par le logiciel. Au début, les volumes sont plus grands. En se rapprochant du rapport d'évaluation, les volumes deviennent plus petits afin d'assurer l'exactitude des résultats. L'utilisateur définit le premier volume et le plus petit volume ajouté. Tous les autres volumes sont calculés en tenant compte de la progression de l'analyse. La mise en œuvre de smartDT avec volumes ajoutés intelligemment accélère considérablement la détermination du suppresseur, et ce, en délivrant la même précision, voire une meilleure, que la DT classique. Le temps gagné par détermination est de 20 à 40 %.
- AN-V-145Suppresseur «Solderon ST-200 Primary» (Rohm et Haas) dans un bain d'étain
Détermination du suppresseur «Solderon ST-200 Primary» dans un bain d'étain par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-137Suppresseur «Cupraspeed» (Atotech) dans un bain acide de cuivre
Détermination de Supressor «Cupraspeed» dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-182Suppresseur «Top Lucina a-M» (Okuno Chemical Industries) dans un bain acide de cuivre
Détermination du suppresseur «Top Lucina α-M» dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-141Suppresseur «MACuSpec PPR 100 Wetter» (MacDermid) dans un bain acide de cuivre
Détermination du suppresseur «MACuSpecTM PPR 100 Wetter» dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-133Suppresseur «Copper Gleam 2001 Carrier» (Rohm et Haas) dans un bain acide de cuivre
Détermination du suppresseur «Copper GleamTM 2001 Carrier dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-184Leveler «Top Lucina a-3» (Okuno Chemical Industries) dans un bain acide de Cu
Détermination de Leveler «Top Lucina α-3» dans des bains de cuivre acides par technique de courbe de réponse (RC) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-156Brillanteur «Thrucup EVF-1A» (Uyemura) dans un bain acide de cuivre
Détermination du brillanteur «Thru-Cup EVF-1A» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-147Brillanteur «InPulse H6» (Atotech) dans un bain acide de cuivre
Détermination du brillanteur «InPulse H6» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse pulsée (CPVS).
- AN-V-143Suppresseur «Multibond 100 Part A20» (MacDermid) dans un bain acide de cuivre
Détermination du suppresseur «MultiBondTM 100 Part A20 dans un bain de cuivre acide par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-135Suppresseur «Cupracid BL-CT» (Atotech) dans un bain acide de cuivre
Détermination du suppresseur «Cupracid BL-CT» dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-183Brillanteur «Top Lucina a-2» (Okuno Chemical Industries) dans des bains acides de Cu
Détermination du brillanteur «Top Lucina α-2» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-157Lisseur «Thru-Cup EVF-R» (Uyemura) dans un bain acide de cuivre
Détermination de Leveler «Thru-Cup EVF-R» dans des bains de cuivre acides par technique de courbe de réponse (RC) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-155Suppresseur «Thrucup EVF-B» (Uyemura) dans un bain acide de cuivre
Détermination du suppresseur «Thru-Cup EVF-B» dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-146Suppresseur «InPulse H6» (Atotech) dans un bain acide de cuivre
Détermination de Supressor «InPulse H6» dans des bains de cuivre acides par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-144Suppresseur «Ronastan TP» (Rohm et Haas) dans un bain d'étain/plomb
Détermination du suppresseur «Ronastan TP Additive» dans un bain d'étain/plomb par titrage de dilution (DT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-142Brillanteur «MACuSpec PPR 100» (MacDermid) dans un bain acide de cuivre
Détermination du brillanteur «MACuSpecTM PPR 100 Brightener» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-138Brillanteur «Cupraspeed» (Atotech) dans un bain acide de cuivre
Détermination du brillanteur «Cupraspeed» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-136Brillanteur «Cupracid BL» (Atotech) dans un bain acide de cuivre
Détermination du brillanteur «Cupracid BL» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AN-V-134Brillanteur «Copper Gleam 2001 Additive» (Rohm et Haas) dans un bain acide de cuivre
Détermination du brillanteur «Copper GleamTM 2001 Additive» dans des bains de cuivre acides par la technique d‘approximation linéaire modifiée (Modified Linear Approximation Technique - MLAT) en utilisant la voltampérométrie cyclique inverse (CVS).
- AB-420Détermination de suppresseur par CVS en utilisant la technique de calibrage «smartDT» avec volumes ajoutés dynamiquement
Cet Application Bulletin décrit la détermination de suppresseur dans les bains de cuivre acides avec smartDT. La détermination du suppresseur par titrage de dilution (Dilution Titration, DT) exige de nombreuses additions de solutions standard ou d'échantillon pour atteindre le rapport d'évaluation. En règle générale, la détermination s'opère selon des volumes ajoutés à une même cadence fixe. smartDT utilise des volumes d'additions variables calculés de manière dynamique par le logiciel. Au début, les volumes sont plus grands. En se rapprochant du rapport d'évaluation, les volumes deviennent plus petits afin d'assurer l'exactitude des résultats. L'utilisateur définit le premier volume et le plus petit volume ajouté. Tous les autres volumes sont calculés en tenant compte de la progression de l'analyse.Comparé à la DT classique, le temps gagné grâce à smartDT est de 20 à 40 % par détermination.smartDT est idéal pour la régression non-linéaire et quadratique ainsi que pour l'interpolation linéaire. Il peut être utilisé pour la détermination de suppresseur dans les bains de cuivre acides ainsi que les bains d'étain et de zinc. Des électrodes de travail de Pt de 1, 2 et 3 mm peuvent être utilisées.Un 800 Dosino est requis pour l'addition automatisée de la solution standard de suppresseur ou d'échantillon. Cette méthode peut être également intégrée à des systèmes de CVS entièrement automatisés.
- WP-051Développement d'une méthode CVS automatisée et optimisation des bains d'électrodéposition à composants multiples
Depuis trois décennies, la CVS ou voltampérométrie cyclique inverse (Cyclic Voltammetric Stripping) est la pratique courante pour l’analyse des additifs organiques dans les bains d'électrodéposition de cuivre dans le secteur de la galvanisation des circuits imprimés et des wafers. Les variations dans la composition de ces bains ont fait naître un besoin d'optimisation des procédures de développement de méthodes. Les nouvelles avancées au niveau du matériel et des protocoles logiciels pour la CVS ont grandement simplifié le processus global d’optimisation des méthodes. Cette étude examine le processus d'optimisation de méthode en liaison avec ces protocoles.
