Applicazioni in Stripping Voltammetrico Ciclico
Lo stripping voltammetrico ciclico (CVS) è una tecnica elettrochimica utilizzata per analizzare il contenuto di additivi organici nei bagni galvanici. I nostri esperti hanno compilato vari documenti applicativi sulle applicazioni CVS per diversi additivi.
- AN-PAN-1067Analisi online degli additivi organici nel processo di placcatura del rame
Il monitoraggio degli additivi organici nei bagni di ramatura è fondamentale. 2060 CVS Process Analyzer ottimizza la galvanica del rame fornendo un controllo preciso del bagno.
- AN-V-202Determinazione del soppressore in bagni di rame acidi tramite smartDT
La determinazione del soppressore tramite titolazione per diluizione (Dilution Titration, DT) richiede numerose aggiunte di soluzione standard o di campione per raggiungere il rapporto di valutazione. Normalmente si lavora con l'aggiunta di volumi fissi equidistanti. Con smartDT vengono utilizzati volumi di aggiunta variabili che vengono calcolati automaticamente dal software. Inizialmente, i volumi sono più grandi. Verso il rapporto di valutazione i volumi sono più piccoli, in modo da garantire risultati accurati. L'utente determina il primo e il più piccolo volume aggiunto. Tutti i volumi rimanenti sono calcolati dal software in base ai progressi dell'analisi. L'uso di smartDT con volumi di aggiunta intelligenti accelera la determinazione del soppressore in modo significativo. Questo con la stessa o addirittura una maggiore precisione rispetto alla classica DT. Il tempo risparmiato per determinazione è tra il 20 e il 40%.
- AN-V-145Soppressore «Solderon ST-200 Primary» (Rohm und Haas) in un bagno di stagno
Determinazione del soppressore «Solderon ST-200» Primary in un bagno di stagno tramite titolazione per diluizione (DT) attraverso la voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-137Soppressore «Cupraspeed» (Atotech) in un bagno acido di rame
Determinazione del soppressore «Cupraspeed» in bagni acidi di rame tramite titolazione per diluizione (DT) tramite voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-182Soppressore «Top Lucina a-M» (Okuno Chemical Industries) in un bagno acido di rame
Determinazione del soppressore «Top Lucina α-M» in bagni acidi di rame tramite titolazione per diluizione (DT) attraverso la voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-141Soppressore «MACuSpec PPR 100 Wetter (MacDermid) in un bagno acido di rame
Determinazione del soppressore «MACuSpecTM PPR 100 Wetter» in bagni acidi di rame attraverso titolazione per diluizione (DT) tramite voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-133Soppressore «Copper Gleam 2001 Carrier» (Rohm und Haas) in un bagno acido di rame
Determinazione del soppressore «Copper GleamTM 2001 Carrier» in bagni acidi di rame attraverso titolazione per diluizione (DT) tramite voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-184Leveler «Top Lucina a-3» (Okuno Chemical Industries) in un bagno acido di rame
Determinazione del leveler «Top Lucina α-3» in bagni acidi di rame attraverso la Response Curve Technique (RC) tramite voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-156Brightener «Thrucup EVF-1A» (Uyemura) in un bagno acido di rame
Determinazione del brightener «Thru-Cup EVF-1A» in bagni acidi di rame attraverso la Modified Linear Approximation Technique (MLAT) tramite voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-147Brightener «InPulse H6» (Atotech) in un bagno acido di rame
Determinazione del brightener «InPulse H6» in bagni acidi di rame attraverso la Modified Linear Approximation Technique (MLAT) tramite il Cyclic Pulse Voltammetric Stripping (CPVS).
- AN-V-143Soppressore «Multibond 100 Part A20 (MacDermid) in un bagno acido di rame
Determinazione del soppressore «MultiBondTM 100 Part A20» in un bagno acido di rame attraverso titolazione per diluizione (DT) tramite voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-135Soppressore «Cupracid BL-CT» (Atotech) in un bagno acido di rame
Determinazione del soppressore «Cupracid BL-CT» in bagni acidi di rame tramite titolazione per diluizione (DT) tramite voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-183Brightener «Top Lucina a-2» (Okuno Chemical Industries) in bagni acidi di Cu
Determinazione del brightener «Top Lucina α-2» in bagni acidi di rame attraverso la Modified Linear Approximation Technique (MLAT) tramite voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-157Leveler «Thru-Cup EVF-R» (Uyemura) in un bagno acido di rame
Determinazione del leveler «Thru-Cup EVF-R» in bagni acidi di rame attraverso la Response Curve Technique (RC) tramite voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-155Soppressore «Thrucup EVF-B» (Uyemura) in un bagno acido di rame
Determinazione del soppressore «Thru-Cup EVF-B» in bagni acidi di rame tramite titolazione per diluizione (DT) attraverso la voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-146Soppressore «InPulse H6» (Atotech) in un bagno acido di rame
Determinazione del soppressore «InPulse H6» in bagni acidi di rame tramite titolazione per diluizione (DT) attraverso la voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-144Soppressore «Ronastan TP» (Rohm und Haas) in un bagno stagno/piombo
Determinazione del soppressore «Ronastan TP Additive» in un bagno di stagno/piombo tramite titolazione per diluizione (DT) attraverso la voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-142Brightener «MACuSpec PPR 100 Wetter (MacDermid) in un bagno acido di rame
Determinazione del brightener «MACuSpecTM PPR 100 Brightener» in bagni acidi di rame attraverso la Modified Linear Approximation Technique (MLAT) tramite voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-138Brightener «Cupraspeed» (Atotech) in un bagno acido di rame
Determinazione del brightener «Cupraspeed» in bagni acidi di rame attraverso la Modified Linear Approximation Technique (MLAT) tramite voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-136Brightener «Cupracid BL-CT» (Atotech) in un bagno acido di rame
Determinazione del brightener «Cupracid BL» in bagni acidi di rame attraverso la Linear Approximation Technique (LAT) tramite voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AN-V-134Brightener «Copper Gleam 2001 sostanza aggiuntiva (Rohm und Haas) in un bagno acido di rame
Determinazione del brightener «Copper GleamTM 2001 Additive» in bagni acidi di rame attraverso la Modified Linear Approximation Technique (MLAT) tramite voltammetria ciclica di stripping (CVS).
- AB-420Determinazione del soppressore con CVS utilizzando la tecnica di calibrazione «smartDT» con volumi di aggiunta dinamici
Questo Application Bulletin descrive la determinazione del soppressore in bagni di rame acidi tramite smartDT. La determinazione del soppressore tramite titolazione per diluizione (Dilution Titration, DT) richiede numerose aggiunte di soluzione standard o di campione per raggiungere il rapporto di valutazione. Normalmente si lavora con l'aggiunta di volumi fissi equidistanti. Con smartDT vengono utilizzati volumi di aggiunta variabili che vengono calcolati in modo dinamico automaticamente dal software. Inizialmente, i volumi sono più grandi. Verso il rapporto di valutazione i volumi sono più piccoli, in modo da garantire risultati accurati. L'utente determina il primo e il volume più piccolo aggiunto. Tutti i volumi rimanenti sono calcolati dal software in base ai progressi dell'analisi.Rispetto alla DT classica, con la smart DT il risparmio di tempo è tra il 20 e il 40% per determinazione.La smartDT è adatta per la regressione non-lineare e quadratica, nonché per l'interpolazione lineare. Può essere utilizzata per la determinazione del soppressore in bagni acidi di rame, nonché di stagno. In questo caso possono essere utilizzati elettrodi Pt da lavoro da 1, 2 e 3 mm.Un 800 Dosino è necessario per l'aggiunta automatica degli standard di soppressione o del campione. Il metodo può anche essere integrato in sistemi CVS completamente automatizzati.
- WP-051Sviluppo di un metodo CVS automatico e ottimizzazione dei bagni galvanici a più componenti
Negli ultimi tre decenni, la voltammetria ciclica di stripping (CVS, Cyclic Voltammetric Stripping) è stata la prassi standard per l'analisi degli additivi organici nei bagni di elettrodeposizione del rame nei settori dei circuiti stampati e di deposizione su wafer. A causa delle variazioni nelle composizioni di tali bagni è stato necessario creare routine per lo sviluppo di un metodo ottimale. I nuovi progressi nei protocolli hardware e software della CVS hanno semplificato di molto il processo generale di ottimizzazione del metodo. In questo studio si discute del processo di ottimizzazione del metodo insieme a questi protocolli.
