Negli ultimi tre decenni, la voltammetria ciclica di stripping (CVS, Cyclic Voltammetric Stripping) è stata la prassi standard per l'analisi degli additivi organici nei bagni di elettrodeposizione del rame nei settori dei circuiti stampati e di deposizione su wafer. A causa delle variazioni nelle composizioni di tali bagni è stato necessario creare routine per lo sviluppo di un metodo ottimale. I nuovi progressi nei protocolli hardware e software della CVS hanno semplificato di molto il processo generale di ottimizzazione del metodo. In questo studio si discute del processo di ottimizzazione del metodo insieme a questi protocolli.
