La industria de los semiconductores se basa en obleas de silicio que primero deben procesarse por medios mecánicos y químicos. El grabado húmedo es un tratamiento químico utilizado para formar estructuras en el silicio utilizando un ácido fuerte o una mezcla de ácidos. Las soluciones de grabado ácido suelen contener ácido fluorhídrico (HF) debido a su elevada velocidad de grabado. La determinación del fluoruro en soluciones de grabado de silicio es posible mediante valoración termométrica, como se describe en esta Nota de Aplicación.
