2035 Process Analyzer 过程分析仪-Potentiometric 电位分析
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适用于电位滴定和离子选择性测量的 2035 Process Analyzer 过程分析仪,可使用专用电极和滴定剂进行分析。此外,该版本的 2035 Process Analyzer 过程分析仪还适用于使用万通高性能电极进行离子选择性分析。这一准确的标准溶液技术是处理复杂样品基质的靠谱方法。此电位分析款型的分析仪可提供当前市场上所有测量技术的准确结果。滴定法作为常用的分析方法之一,具有远超过 1000 种应用可供使用,能分析数百种成份,从酸/碱元素直到电解池中金属浓度,可用于几乎任何行业。滴定法是目前使用广泛的绝对化学方法之一。该技术简单易行,无需校准。可用于此配置的部分滴定选项:电位分析滴定; 使用光纤技术的比色滴定; 基于卡尔·费休滴定法测定水份;
2035 Process Analyzer 过程分析仪-Photometric 光度分析
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适用于光度分析的 2035 Process Analyzer 过程分析仪,包括一个在较大浓度范围内均可十分稳定的紧凑型光度计模块,且可通过其搅拌功能保持恒温。可提供两种选择款型的分析仪:比色皿系统或光纤浸渍探头。比色皿系统紧凑小巧,可降低试剂消耗,但能够提供较长光路以确保较高灵敏度。光纤浸渍探头显著地扩展了我们的应用范围,通过使用内部样品稀释步骤使高浓度样品的准确测量更加方便,且具有短于比色皿系统的光路。光度分析是一种广泛使用的常见技术,可以在饮用水甚至钙和镁的盐水溶液中测定离子成份如氨、锰和铁。不利的样品基质特性如样品颜色或浊度等可通过差分测量去除,测量前后加入显色剂。
2035 Process Analyzer 过程分析仪-Thermometric 温度分析
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适用于温度滴定的 2035 Process Analyzer 过程分析仪可使用反应迅速的高灵敏性温度传感器进行自动化滴定。取代电化学电位,通过滴定过程中的溶液温度变化,用焓值来确定终点。温度滴定是迄今为止市场上稳定的滴定方法,可 7 天 24 小时在线应用,例如蚀刻浴的监控。无需进行传感器校准,且清洁步骤极为简便。可使用此技术进行快速分析;例如酸混合物,可在三分钟之内分析完毕。温度滴定可用于各种各样的滴定分析,因其温度传感器坚固坚固实用,所以非常适用于处理腐蚀性样品基质。该传感器无需维护,因其极少会发生脏污结垢或不希望的相互反应,而且不像其他滴定方法那样有薄膜或隔膜问题。温度滴定是处理无法使用电位滴定的复杂样品的解决方案,对于含有 HF 的样品来说也是一种先选技术。