本文献描述了一种非常简单的方法，可用于在金
基底上沉积少量铂。 该方法基于一个称为置换沉积的电化学过程，在此过程中，贵金属的沉积通过在开路电位（OCP）下将沉积在基底上的前驱体金属吸附层氧化而得以实现。

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