OMNIS High-Pressure Pump Unit

Die OMNIS IC High-Pressure Pump Unit ist eine hochmoderne, chemikalienbeständige Hochdruckpumpe, die speziell für die Ionenchromatographie entwickelt wurde.

Sie zeichnet sich durch eine pulsationsgesteuerte Eluentenzufuhr aus, bei der das Fördervolumen automatisch ausgeglichen wird, sodass keine zusätzlichen Pulsationsdämpfer erforderlich sind. Der Hub wird dynamisch an die Betriebsbedingungen angepasst, wodurch eine optimale Leistung gewährleistet wird. Zwei synchronisierte Einzelantriebe ermöglichen eine präzise Steuerung und konstante Flussraten. Der Kolben ist nicht mit dem Pumpenkopf, sondern mit dem Antrieb verbunden, was die Stabilität erhöht und die Wartung vereinfacht. Der Flusspfad ist metallfrei und chemisch inert, was maximale Kompatibilität mit aggressiven Medien garantiert. Darüber hinaus ist die Pumpe beständig gegenüber Substanzen in einem breiten pH-Bereich von 0 bis 14 und eignet sich somit für ein breites Anwendungsspektrum.

Die OMNIS IC High-Pressure Pump Unit kann optional mit einer Kolbenhinterspülung ausgestattet werden, um Kristallisation zu verhindern und den Wartungsaufwand zu minimieren. Die OMNIS High-Pressure Pump Unit umfasst ein manuelles Purge-Ventil. Wird ein 7/3-Injektor in das OMNIS IC System installiert, kann der Spülvorgang vollständig automatisiert werden.

Spezifikationen:

• Druckbereich: 0 … 42 MPa
• Flussbereich: 0.0001  … 10.000 mL/min
• Flussgenauigkeit: 0.1%
• Flussreproduzierbarkeit: 0.1%
• Pulsation: 0.1%
• Pumpenkopfmaterial: PEEK