OMNIS High-Pressure Pump Unit

OMNIS IC High-Pressure Pump Unit 是一款专为离子色谱设计的先进耐化学腐蚀高压泵。

它采用脉动控制的淋洗液输送方式，输送体积可自动补偿，从而无需额外安装脉动阻尼器。根据运行工况动态优化冲程，确保最佳性能。两个同步的独立驱动装置可实现精确控制和稳定的流量速度。活塞连接至驱动装置而非泵头，从而增强了稳定性并简化了保养。流道无金属且化学惰性，确保与腐蚀性介质具有最大兼容性。此外，该泵对 pH 值范围为 0 至 14 的物质具有耐抗性，使其适用于广泛的应用场景。

OMNIS IC High-Pressure Pump Unit 可选配活塞密封冲洗装置，以防止结晶并最大限度减少保养需求。OMNIS High-Pressure Pump Unit 配备手动排气阀。若在 OMNIS IC System 中安装 3 位 7 通进样器，则可实现全自动的冲洗过程。

规格说明书：

• 压力范围：0 – 42 MPa
• 流量范围：0.0001 -10000 mL/min
• 流量精度： 0.1 %
• 流量重现性： 0.1 %
• 脉动： 0.1 %
• 泵头材料 ：PEEK