應用領域
- AB-014通过电位滴定法测定镍
介绍用于测定含金和含银电镀池中的镍的电位滴定法。使用 KCN 进行滴定。在滴定前可还原出金和银。钢材中镍的测定请参考有关文献。Ni 2+ + 4 KCN + 2NH 4+ → (NH 4) 2[Ni(CN) 4] + 4 K +
- AB-016黄铜、青铜、镍银和电镀槽中铜的常规测定
介绍用于测定铜的一种常规方法。在样品溶解并添加 KI/KCNS 溶液后，使用硫代硫酸钠将释放出的碘回滴。通过电位滴定法实现终点指示。
- AB-018采用电位滴定法同时测定电镀池和/或合金中的金和铜
该报告介绍采用 Fe(II) 溶液作为滴定剂、通过电位滴定法同时测定金和铜的过程。Fe(II) 将 Au(III) 直接还原为金属，而 Cu(II) 却不会有任何反应。加入氯化物后可将 Fe(III) 络合并出现氧化还原反应。之后再添加碘化钾，并由此将 Cu(II) 还原为 Cu(I) 并将释放出的碘再与 Fe(II) 溶液一起用 Pt-Titrode 铂电极进行滴定。化学反应：Au(III) + 3 Fe(II) → Au + 3 Fe(III)2 Cu(II) + 2 I - → 2 Cu(I) + I 2I 2 + 2 Fe(II) → 2 I - + 2 Fe(III)
- AB-036通过极谱法对金属离子半波电位进行测定
在下表中，列出了 90 金属离子的半波电位和峰值电位。除非另有说明，半波电位（以电压表示）均是在 25℃ 下通过滴汞电极（DME）测定的。
- AB-046氰化物的电位滴定测定
氰化物的测定对于电镀浴（电镀）废水的解毒处理极为重要，而且由于其毒性较高，该项测定对于普通水样也同样重要。即使浓度只有 0.05 mg/L CN -，也会导致鱼类死亡。下面将介绍使用电位滴定法测定不同浓度样品中氰化物的过程。化学反应：2 CN - + Ag + → [Ag(CN) 2] -[Ag(CN) 2] - + Ag + → 2 AgCN
- AB-061银的电位测定 - 按照 EN ISO 和 GB/T 标准进行准确测定
银不仅在珠宝和银器中是一重要的金属，而且在导电体和电触头中也是一种重要的金属。了解纯银和银合金的准确含银量可以保证达到珠宝和银器的质量标准。对于镀银行业来说，了解镀银槽液的银含量有助于镀槽的高效运作。虽然 X 射线荧光技术 (XRF) 是一快速测定纯银和银合金含银量的选择，但只能用来测定金属最外层部分的含银量。 相比之下，滴定提供了一个更全面的解决方案，考虑到整个样品，从而防止厚镀伪劣品。 该应用报告介绍了两种测定银含量的方法：一种是按照 EN ISO 11427、ISO 13756、GB/T 17823 和 GB/T 18996 标准用电位法测定纯银和银合金的银含量，另一种方法是用溴化钾或氯化钾滴定法测定镀银槽液的银含量
- AB-074通过阳极溶出伏安测量法对锑、铋以及铜进行测定
本 Application Bulletin 描述了伏安法测定锑、铋以及铜元素。三种元素的指示极限为 0.5 ... 1 µg/L。
- AB-089阳极氧化池的电位分析
本文介绍用于控制硫酸和铬酸阳极氧化池的电位滴定方法。除主要成分铝、硫酸和铬酸外，还将测定氯化物、草酸和硫酸。
- AB-090锡浴的电位分析
将介绍酸性和碱性锡浴的电位滴定分析方法。介绍以下几种方法：锡（II）/锡（IV）/总锡、酸性锡浴中的游离氟硼酸或游离硫酸、酸性锡浴中的氯化物、碱性锡浴中的游离氢氧化物和碳酸盐。
- AB-091黄铜和青铜浴的电位分析
介绍用于测定下列浴组分的滴定分析方法：黄铜浴：铜、锌、游离氰化物、铵、碳酸盐和亚硫酸盐青铜浴：铜、锌和游离氰化物
- AB-092铅浴的电位分析
本文介绍铅、锡（II）和游离氟硼酸的电位滴定。
- AB-093镉电镀浴的电位分析
本报告介绍用于测定镉、游离氢氧化钠、碳酸钠和氰化物总量的滴定方法。游离氰化物可通过氰化物总量和镉含量计算得出。
- AB-101用Cu ISE电极进行络合滴定
本应用报告说明了如何用络合电位滴定法测定金属离子。 使用铜离子选择性电极来指示滴定终点。 因为该电极并不直接响应络合剂，所以要将相应的Cu络合物加入溶液。 用该电极可测定水硬度，还可测定电镀槽液，金属盐，矿物及矿石中的金属浓度。 已对下列金属离子进行过测定： Al3+， Ba2+， Bi3+， Ca2+， Co2+， Fe3+， Mg2+， Ni2+， Pb2+， Sr2+ 以及Zn2+.
- AB-130用电位指示法进行氯离子滴定
除了酸碱滴定之外，对氯离子的滴定是最常用的滴定分析方法之一。 几乎在每一个实验室都频繁用到氯离子滴定法。 本应用报告说明了如何使用自动滴定仪测定浓度范围很宽的氯离子。 通常使用硝酸根作为滴定剂。 （由于环境保护的原因，应禁用硝酸汞）。 滴定剂浓度取决于待分析样品中的氯离子浓度。 对于氯离子含量较低的样品，正确地选用电极尤其重要。
- AB-132采用极谱法测定铁含量很高的材料中的钼
本应用报告描述了一种分析方法，可测定含较高浓度铁的钢材及其它材料中的钼。 采用催化极谱法，以滴汞电极的模式测定Mo（VI）。 测定限大约为10 μg/L Mo（VI）。
- AB-176通过阳极溶出伏安法对铅和锡进行测定
在大多数电解质中，铅和锡的峰值电位非常接近，所以根本无法使用伏安法测定。特别是当其中一种金属过量时，尤其困难。方法 1 描述了 Pb 和 Sn 的测定。它在添加十六烷基三甲基溴化铵的情况下使用了阳极溶出伏安法。当我们主要对 Pb 感兴趣Pb 过量Sn/Pb 的比例不超过 200：1，使用该方法。根据方法 1，如果浓度差异不是很大且没有 Cd，可以对 Sn 和 Pb 同时进行测定。当 Sn 和 Pb 痕量存在或有干扰TI 和/或 Cd 离子存在时，使用方法 2。这种方法也在添加了亚甲基蓝的草酸盐缓冲液中使用了差示脉冲阳极溶出伏安法。
- AB-192通过极谱法和阴极溶出伏安法对较低 mg/L 和 µg/L 范围内的硫脲进行测定
硫脲可以和汞形成高度不溶性的化合物。所得到的阳极波用于硫脲的极谱测定。对于非常少量（μg/ L）的分析，则使用了阴极溶出伏安法。在两种情况下，都用到了差分脉冲测量模式。
- AB-196通过极谱法对甲醛进行测定
甲醛可以通过 DME（滴汞电极）进行还原测定。取决于样品组成，可以直接测定样品中的甲醛。如果发生了干扰，则有必要进行样品前处理，例如，吸附、提取、或是蒸馏。共描述了两种方法。在第一种方法中，在碱性溶液中对甲醛进行直接还原。浓度较高的碱金属或碱土金属都会产生干扰。在这样的情况下，应使用第二种方法。甲醛是胺生成腙时的衍生物，它可以在酸性溶液中通过极谱法进行测量。
- AB-420用动态调整添加量的 «smartDT» 校准技术通过 CVS 循环伏安溶出法测定抑制剂
本应用报告描述使用 smartDT 在酸性铜浴中的抑制剂测定。通过稀释滴定法（Dilution Titration，DT）测定抑制剂时需要添加多种标准溶液或样品，直到达到评估比例。一般情况下以固定等距加量方式进行。使用 smartDT 时则可自动根据软件计算来调节添加量。开始的时候添加量较大。越接近评估比例则添加量就越小，以便确保得出准确结果。由用户确定头一次添加量和最小添加量。其他添加量则将由软件根据分析进行程度计算得出。与传统的 DT 稀释滴定法相比，每次测定均可节省 20 至 40 % 的时间。smartDT 适用于非线性和二次回归以及线性内插。它可用于在酸性铜浴以及锡和锡浴中测定抑制剂。此时可使用 1、2 和 3 mm 的 Pt 铂工作电极。800 Dosino 可用于自动添加抑制剂标准溶液或样品。此方法也可集成于全自动化的 CVS 系统中。
- AN-H-051次磷酸钠的测定
化学电镀溶液中次磷酸钠的测定。
- AN-H-126测定银电解槽中的银和硝酸
可在银电解槽中用温度滴定法测定银和硝酸。该方法非常适合于常规分析的过程，因为它在短时间内可提供精确结果。
- AN-I-005铬电解槽中氟化物的含量
使用氟离子选择性电极采用直接电势法测定铬电解槽中的氟化物。
- AN-O-012一种锌电镀槽液中的葡糖酸盐（Gluconate）与水杨酸盐（Salicylate）
采用离子排斥色谱，用直接电导检测法测定锌电镀槽液中的葡糖酸盐（GLUCONATE）与水杨酸盐（Salicylate）。
- AN-O-013一种阳离子电泳涂漆槽液中的乳酸根，甲酸根和乙酸根
采用离子排斥色谱，用直接电导检测法测定一种阳离子电泳涂漆槽液中的乳酸根，甲酸根和乙酸根。
- AN-O-014一种电镀槽液中的柠檬酸根，氟离子，乳酸根和乙酸根
采用离子排斥色谱，用直接电导检测法测定一种电镀槽液中的柠檬酸根，氟离子，乳酸根和乙酸根。
- AN-O-020一种电镀槽液中的柠檬酸和乳酸
采用离子排斥色谱，用电导检测法测定一种电镀槽液中的柠檬酸和乳酸。
- AN-PAN-1064利用拉曼光谱在线监测电镀液中的络合剂
在线拉曼光谱仪可以准确分析电镀液中的络合剂。本应用简报显示了一个使用2060拉曼分析仪的示例。
- AN-PAN-1068通过X射线荧光光谱法（XRF）在线分析白铜镀液中的铜、锡、锌
本应用说明介绍了2060型XRF过程分析仪如何实现白铜电镀液中铜、锡、锌浓度的实时化学监测。
- AN-PAN-1069采用X射线荧光技术在线分析锌镍合金电镀槽液
2060 XRF过程分析仪可在线连续监测锌镍电镀槽液中的元素浓度，为化学添加剂投加提供精 ` 准指导。
- AN-S-024一种酸性镍/锌槽液中的氟离子，氯离子与硝酸根
采用化学抑制后电导检测的阴离子色谱法测定NiSO4和ZnSO4的硫酸溶液中的氟离子，氯离子与硝酸根。
- AN-S-051一种铬电镀槽液中的氯离子，硫酸根，铬酸根与磺酸
采用阴离子色谱用化学抑制后的电导检测法测定一种铬电镀槽液中的氯离子，硫酸根，铬酸根，甲基磺酸（MSA），甲基二磺酸（MDSA）和乙二磺酸（EDSA）。
- AN-S-093一种阳离子电泳涂料槽液中的硝酸根，磷酸根，硫酸根与铬酸根。
采用化学抑制后电导检测的阴离子色谱法测定 阳离子电泳涂料槽液中的硝酸根，磷酸根，硫酸根与铬酸根。
- AN-S-108在线消除重金属后，对一种电镀槽液中的五种阴离子进行测定
采用阴离子色谱，用化学抑制后电导检测法，并采用793离子色谱样品处理模块上的阳离子交换法在线消除重金属后，对一种电镀槽液中的氯离子，亚硝酸根，硝酸根，磷酸根与硫酸根进行测定。
- AN-S-165一种电镀槽液中的次磷酸根，亚磷酸根，酒石酸根，钨酸根，磷酸根，柠檬酸根与焦磷酸根
采用高压梯度以及化学抑制后电导检测的阴离子色谱法测定一种电镀槽液中的次磷酸根，亚磷酸根，酒石酸根，钨酸根，磷酸根，柠檬酸根与焦磷酸根。
- AN-S-191一种含冷却润滑剂的用过的锌槽液中的氯离子，亚硝酸根和硫酸根
采用化学抑制后电导检测的阴离子色谱法测定一种用过的锌槽液中的氯离子，亚硝酸根和硫酸根。
- AN-S-200电镀槽液中的硫酸根，钼酸根与铬酸根
采用化学抑制后电导检测的阴离子色谱法测定一种电镀槽液中的硫酸根，钼酸根与铬酸根。
- AN-S-209一种铬电镀槽液中的氟离子，甲磺酸，ethyldisulfonic acid和methyldisulfonic acid.
采用化学抑制后电导检测的阴离子色谱法测定氟离子，MSA（甲磺酸），EDSA （ethyldisulfonic acid）和MDSA（methyldisulfonic acid）。
- AN-S-315使用嵌套式稀释、Dosino 再生和 STREAM 测定铬电镀浴中的甲二磺酸
甲二磺酸（MDSA）在铬电镀浴中作为催化剂使用。 须了解电镀浴中的 MDSA 浓度，以便控制铬化过程。 电镀浴样品分析需要稀释 2500 倍。 本应用报告介绍如何分两个步骤进行自动英蓝稀释。 在分析一种样品的过程中，已经开始稀释下一样品，以节省时间。 MSM 将借助 800 Dosino 和 STREAM 安排进行再生：检测器离开之后，将使用淋洗液冲洗再生的 MSM。
- AN-S-328在光亮镀铬槽液中测定铬酸盐之外的硫酸
电镀铬是一种重要的电镀技术，在金属或塑料表明上覆盖一薄层铬，用来进行保护和装饰。硫酸盐和硫酸浓度是电镀槽液涂覆技术中的重要参数，须不断监测。镀铬槽液中的阴离子可在色谱柱 Metrosep A Supp 5 - 250/4.0 上进行分离，并通过序列抑制法使用电导检测进行测定。
- AN-T-019镀银槽中的氰化物和银
使用硝酸银和银电极采用电位滴定法同时测定镀银槽中氰化物和银。
- AN-T-020镀铬槽中的Cr(VI)和Cr(III)
使用留待硫酸盐和复合型铂电极采用碘值电位滴定法测定镀铬槽中的Cr(VI) 和 Cr(III) 。
- AN-T-021镀锡槽中的Sn(II)和硫磺酸
采用电位滴定法测定酸性锡渡槽中的 Sn(II)和硫磺酸。
- AN-T-022镉、铜、铅和锌的碱性电镀液中的氰化物
使用硝酸银和银电极采用电位滴定法测定碱性镀槽中的氰化物。
- AN-T-023镉、铜、铅和锌的碱性电镀液中的氢氧化物和碳酸盐
使用盐酸和复合玻璃电极采用电位滴定法测定碱性电镀槽中氢氧化物和碳酸盐。
- AN-T-024镉、铜、铅和锌的碱性电镀液中金属的含量
使用 EDTA 和 Cu ISE采用电位滴定法测定碱性电镀槽中的镉、铜、铅、锌。
- AN-T-071使用«离子型表面活性剂» 电极测定钯
使用hexadecylpyridinium氯化物和«非离子表面活性剂电极采用电位滴定法测定钯。
- AN-T-191根据 EN ISO 11427 和 GB/T 17832 测定银首饰合金中的银含量
了解用于珠宝的银合金中的银的确切含量对于确保珠宝质量非常重要。因此，国际上和国内都对测定程序进行了规定。一种常见的方法是在用银电极作为指示电极对银进行酸性消化后用溴化钾滴定。
- AN-T-223电镀槽分析
电镀工艺用于多个不同的工业领域，以保护各种产品的表面质量，防止腐蚀或磨损，并显著提高其使用寿命。定期检查电镀液成分以确保工艺正常运行至关重要。 典型的电镀槽包括碱性脱脂槽或含有铜、镍或铬等金属或氯化物和氰化物等成分的酸性或碱性槽。选择的分析技术必须符合此类分析的高安全标准，并能得出可靠的结果，这一点至关重要。 OMNIS 样品机器人系统可在不同的工作站上自动移取和分析侵蚀性电镀液样品，从而提高了实验室的安全性。与手动滴定相比，该系统可提供更可靠的结果，而且由于可同时分析不同的参数，因此更节省时间。
- AN-V-015中性高浓度锌溶液中的镍、锑、镉、铊和铜
电镀工业高锌溶液中 Ni, Sb, Cd, Tl 和 Cu 的测定
- AN-V-016银电镀液中的镍、铁和铜
银电镀槽中 Ni, Fe 和 Cu 的测定
- AN-V-017银电镀液中的铬和硒
镀银槽在 Cr 和 Se 的测定
- AN-V-018有机金属电镀槽中的锡和铅
有机金属镀槽中Sn 和 Pb 的测定
- AN-V-076金电镀液中的钴
在DME中，高浓度金中的钴可被测定，使用 5-sulfosalicylic acid作为电解液，使用DMG作为配位试剂。
- AN-V-077锌电镀液中的镍和钴 (高浓度的 ZnSO4 溶液)
浓缩锌溶液中的镍可采用吸附条带伏安法(AdSV)测定，使用氨缓冲液作为电解液，丁二酮肟（DME）作为配位试剂.在高浓度Zn2+存在的条件下，由于钴的信号受到干扰，所以不能对钴进行测定。因此需要使用配位试剂: α-氨缓冲液中加二苯乙二酮和亚硝酸盐。
- AN-V-078锌溶液中的锑
锌电解槽中的总Sb是采用阳极条带伏安法 (ASV)在5 mol/L 的盐酸中测定。 如果使用0.6 mol/L的盐酸，可选择性测定其中的锑(III)的浓度。通过选择性的氧化铜，可排除铜的干扰。但是样品中铜浓度限定了可测的样品数量。
- AN-V-079电镀槽中的锗
在HMDE，使用1-亚硝基-2-萘酚 (1N2N)作为配位试剂，铁的浓度可采用吸附条带伏安法测定。
- AN-V-105锌厂电解液中（浓缩 ZnSO 溶液）镉过量情况下的铊
采用阳极溶出伏安法（ASV）借助 HMDE（TI）、采用极谱法借助 DME（Cd）或者采用盐酸水溶液作为支持电解液来测定铊和镉。由于 Cd 极度过量并由此影响铊的测定，还会采取后续电解法进行处理，以便从汞滴中去除一起分离出来的金属。
- AN-V-111锌厂电解液（浓缩 ZnSO 溶液）中的锗
<P align=left>用 HMDE 悬汞电极通过吸附溶出伏安法（AdSV）、以硫酸水溶液作为支持电解液和邻苯二酚为络合剂来测定锗。可测定样品（含有 150 g/L Zn、3 g/L Cd 和 1 mg/L Pb）中的 20 µg/L Ge。
- AN-V-128一种铬电镀槽液中的总铁浓度
采用极谱法测定一种铬电镀槽液中的总铁浓度。该方法适用于浓度在ppm级别的铁。Fe（II）与Fe（III）的检测信号灵敏度相同。
- AN-V-144Sn/Pb 槽液 Ronastan TP 中的抑制剂 Ronastan TP（Rohm and Haas）
采用循环溶出伏安法（CVS）使用稀释滴定技术（DT）测定一种锡/铅槽液 Ronastan TP 中的抑制剂« Ronastan TP Additive。
- AN-V-145Sn/Pb 槽液中的抑制剂“Solderon ST-200 Primary” （Rohm and Haas）
采用循环溶出伏安法（CVS）使用稀释滴定技术（DT）测定一种锡槽液中的抑制剂 «Solderon ST-200 Primary。
- AN-V-152氰化镀金槽液中的Tl
采用阳极溶出伏安法（ASV），不进一步添加电解液，测定一种氰化镀金槽液中的Tl浓度。
- AN-V-154氰化镀金槽液中的NTA
采用极谱法测定一种氰化镀金槽液中的NTA（作为Bi-NTA络合物来测定）。 加标时，使用一种Bi-NTA标准溶液。
- AN-V-158Sn槽液中的In
采用阳极溶出伏安法（ASV）在含HCl / Urotropin®的电解液中测定一种Sn槽液中的In浓度。使用该测定方法，在浓度大约0.5 mg/L以下时，检测信号与测量杯中In浓度呈线性。标准加入溶液也用HCl和Urotropin®来配制。
- AN-V-159Sn槽液中的Bi
采用阳极溶出伏安法（ASV）在含HCl / Urotropin®的电解液中测定一种Sn槽液中的Bi浓度。在进行测定之间需要反应至少25分钟。标准加入液时也用HCl和Urotropin®配制。
- AN-V-170锌厂电解液中的Se
采用阴极溶出伏安法（CSV），在含EDTA和铜的硫酸铵电解液中测定锌厂电解液中的Se（IV）浓度。 须根据样品及沉积时间的具体情况来选择铜的浓度。 采用伏安法只能测定游离态的硒，因此须考虑到硒可与许多阳离子形成微溶的化合物（例如：Fe2(SeO3 )3，Ks = 2·10-31）。
- AN-V-171制锌厂电解液中的Te
采用阴极溶出伏安法（CSV），在含EDTA和铜的硫酸铵电解液中测定锌厂电解液中的Te（IV）浓度。 为了对干扰性的Zn正确地进行络合，必须用高浓度的EDTA ，pH为3.4.
- AN-V-172以furildioxime作为络合剂测定锌厂电解液中的Co
采用吸附溶出伏安法（AdSV）在氨水缓冲液中以α- furildioxime作为络合剂测定一种锌厂电解液（中性硫酸锌溶液）中的Co浓度。
- AN-V-173硫酸锌溶液中的Pb
采用阳极溶出伏安法（ASV），在盐酸电解液中测定硫酸锌溶液中的Pb浓度。
- AN-V-174制锌厂电解液中的砷
采用阳极溶出伏安法用侧面金电极（lateral gold electrode）在HCl电解液中测定锌厂电解液中的总砷浓度。由于样品中含有大量过量的锌，须对沉积电位作相应调整。须施加比砷信号大约负100毫伏的另一个电位，以将干扰性的锑选择性地氧化。在进行样品处理时，将样品通过一根阳离子交换柱，以降低测量溶液中锌的浓度。
- AN-V-175以氯冉酸（chloranilic acid）作为络合剂测定锌厂电解液中的Sb（III）
使用吸附溶出伏安法（AdSV）以氯冉酸（chloranilic acid）作为络合剂测定锌厂电解液中的Sb（III）浓度。 采用这种测定方法时，高浓度的铜不会产生干扰。 大约过量10倍的铅会产生干扰，因为会在锑信号的边上出峰。 采用下面列出的参数时，该方法的工作范围为 1 - 30 µg/L 锑（III） （测量杯中的浓度）
- AN-V-199镀金液中金（I）的伏安法测定
控制镀金液中金（I）的含量是保证高质量的必要条件。使用多模式电极 Pro 进行伏安分析是一种有效的解决方案。
- AN-V-200铜电解溶液中硫脲的测定
铜电解过程中的硫脲测量会因氯化物含量过高而变得复杂。伏安分析法克服了这一问题，提高了铜的质量。
- AN-V-203测定生产 CIGS 太阳能电池的电解液中的铜
本 Application Note 介绍使用极谱法测定生产铜铟镓硒薄膜太阳能电池（即为 CIGS 电池）的电镀池中的铜。CIGS 吸收层将电解沉积在涂覆钼的基材上。用硫酸将样品稀释之后作为支持电解质进行铜的测定。
- AN-V-204测定生产 CIGS 太阳能电池的电解液中的铟
本 Application Note 介绍使用极谱法测定生产铜铟镓硒薄膜太阳能电池（即为 CIGS 电池）的电镀池中的铟。CIGS 吸收层将电解沉积在涂覆钼的基材上。用硫酸将池样品稀释之后作为支持电解质进行铟的测定。
- AN-V-205测定生产 CIGS 太阳能电池的电解液中的镓
本 Application Note 介绍使用极谱法测定生产铜铟镓硒薄膜太阳能电池（即为 CIGS 电池）的电镀池中的镓。CIGS 吸收层将电解沉积在涂覆钼的基材上。用硫酸将样品稀释之后作为支持电解质通过阳极溶出伏安测量法（ASV）进行镓的测定。
- AN-V-206测定生产 CIGS 太阳能电池的电解液中的硒
本 Application Note 介绍使用极谱法测定生产铜铟镓硒薄膜太阳能电池（即为 CIGS 电池）的电镀池中的硒。CIGS 吸收层将电解沉积在涂覆钼的基材上。用硫酸将样品稀释之后作为支持电解质进行镓的测定。
- AN-V-207测定生产 CIS 和 CIGS 太阳能电池的电解液中的镉
本 Application Note 介绍使用极谱法测定生产铜铟镓硒薄膜太阳能电池（即为 CIGS 电池）或铜铟硒薄膜太阳能电池（CIS）的电镀池中的镉。从电解液中将通过化学池沉积法（chemical bath deposition，CBD）在 CIGS 或 CIS 吸收层上淀积一层硫化镉（CdS）。
- AN-V-208测定生产 CIS 和 CIGS 太阳能电池的电解质中的硫脲
本 Application Note 介绍使用极谱法测定生产铜铟镓硒薄膜太阳能电池（即为 CIGS 电池）或铜铟硒薄膜太阳能电池（CIS）的电镀池中的硫脲。从电解液中将通过化学池沉积法（chemical bath deposition，CBD）在 CIGS 或 CIS 吸收层上淀积一层硫化镉（CdS）。
- WP-062克服离子测量中的困难：标准加入和直接测量的技巧
离子测量可以通过几种不同的方式进行，例如离子色谱 (IC)、电感耦合等离子体发射光谱法 (ICP-OES) 或原子吸收光谱 (AAS)。其中每一项都是分析实验室中成熟、广泛使用的方法。然而，初始成本相对较高。 相比之下，使用离子选择电极 (ISE) 进行离子测量是这些昂贵技术的一种很有前途的替代方案。本 White Paper 介绍了在应用标准加入或直接测量时可能遇到的挑战以及如何克服这些挑战，以便分析人员对此类分析更有信心。
