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OMNIS IC装置:UF-MiPT、PP/DD

OMNIS IC装置:UF-MiPT、PP/DD

6.05331.080

  • 特長

OMNIS ICにおけるパーシャルループインジェクションテクニックと限外ろ過の組み合わせ用付属品セット:インライン限外ろ過により、サンプルから含有粒子を分離することができます。さらに、パーシャルループインジェクションを用いることで、250 μLのサンプルループにろ過済みサンプルの規定容量を充填することが可能です。OMNIS Dosing Drive Unitは、装着されたOMNISシリンダーユニットとともに、正確な吐出手順を行います。この複合テクニックにより、単一の標準液を用いたキャリブレーションが可能になります。

前提条件:

OMNIS IC AS/ASCOOLを搭載したOMNIS IC S/M/Lには以下が含まれます:

  • 利用可能なOMNIS Dosing Drive Unit
  • 利用可能なOMNIS Peristaltic Pump Unitチャンネル
  • 利用可能なOMNIS MISP Unit
  • 希釈ステーションおよび3/2 方向制御バルブを搭載したAS/ASCOOL、UNF

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