NIRS XDS Process Analyzer 近红外光谱过程分析仪 – 直接光线/无接触－单点
2.928.0310
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基于 NIR XDS 技术，NIRS XDS Process Analyzer 过程分析仪 – DirectLight/NonContact 在新一代无接触过程分析仪中首屈一指，适用于在传送带、轨道、幅带上进行实时分析。无破坏性，可针对几乎任何移动的固体产品进行精确测量。
設備 您的 NIRS XDS Process Analyzer 近红外光谱过程分析仪 – 直接光线/无接触－单点
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NIRS 99% 反射率和波长标准板，用于工艺进程设备，1 英寸直径，45° 度倾斜
6.7450.090
NIRS 99% 反射率和波长标准板，用于工艺进程设备，1 英寸直径， 45° 角
NIRS 99％ 反射率和波长标准板，用于工艺进程设备，探针直径为 0.5 英寸
6.7450.080
NIRS 99％ 反射率和波长标准板，用于工艺进程设备，探针直径为 0.5 英寸
NIRS Process，I/O 通讯盒
6.7440.480
I/O 通讯盒，用于 Process 仪器，配有 24 条模拟和 24 条数字通道
NIRS 99 % 反射率和波长标准板，用于工艺进程设备，直径 1 英寸
6.7450.070
NIRS 99％ 反射率和波长标准板，用于工艺进程设备，探针直径为 1 英寸