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Électrode à film épais en platine/pour travail en solution

Électrode à film épais en platine/pour travail en solution

DRP-C550-U75

Électrode à film épais en platine/pour travail en solution

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DRP-C550-U75

Aperçu des caractéristiques

Électrode à film épais en platine avec la zone de détection plus proche de l'extrémité de la bandelette. Idéale pour l'immersion de l'électrode dans une solution et pour l'électrosynthèse, la caractérisation des composés et le développement d'applications de (bio)détection dans de nombreux secteurs et domaines.

Spécifications techniques

Matériau du substratCéramique
Taille du substrat3,4 x 1,0 x 0,05 cm
Matériau de l'électrode de travail (WE)Platine
Matériau de l'électrode auxiliaire (AUX)Platine
Matériau de l'électrode de référence (REF)Argent
Diamètre WE (mm)4
Aire géométrique WE (cm2)0,11