Électrode à film épais en platine/pour travail en solution
DRP-C550-U75
Électrode à film épais en platine/pour travail en solution
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DRP-C550-U75
Aperçu des caractéristiques
Électrode à film épais en platine avec la zone de détection plus proche de l'extrémité de la bandelette. Idéale pour l'immersion de l'électrode dans une solution et pour l'électrosynthèse, la caractérisation des composés et le développement d'applications de (bio)détection dans de nombreux secteurs et domaines.
Spécifications techniques
| Matériau du substrat | Céramique |
|---|---|
| Taille du substrat | 3,4 x 1,0 x 0,05 cm |
| Matériau de l'électrode de travail (WE) | Platine |
| Matériau de l'électrode auxiliaire (AUX) | Platine |
| Matériau de l'électrode de référence (REF) | Argent |
| Diamètre WE (mm) | 4 |
| Aire géométrique WE (cm2) | 0,11 |