使用离子色谱仪对涂层工艺进行质量控制和优化

2022年1月5日

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基础化学品和原材料中杂质的超痕量分析

Impurities can have detrimental effects for example on the electrical properties of integrated circuits and final products in the semiconductor industry. Ion chromatography (IC) is the ideal method for analyzing ionic impurities, even in the ng/L range.

电镀等表面处理是制造具有特定物理、化学和电子特性的产品过程中非常重要的步骤之一。电镀槽液中溶质、溶剂、催化剂等等的纯度和组成是实现其所需性能、避免损害产品并保证产品质量的关键因素。杂质，即使是超痕量水平，也会对半导体集成电路和终产品产生不利影响。因此，国际半导体设备和材料协会 (SEMI) 规定许多基本化学品和原材料的杂质水平都要在µg/L 范围。离子色谱 (IC) 是分析低浓度离子杂质的理想方法，即使是ng/L 浓度范围内的杂质。

氟化物、氯化物、溴化物、亚硝酸盐、硝酸盐、磷酸盐或硫酸盐等杂质可能会改变电镀液的性能，导致电镀性能受损，甚至半导体直接损坏。因此蚀刻、电镀和清洁溶液用到的化学品和原材料几乎不能含有此类离子杂质。离子色谱结合英蓝基体消除前处理技术和英蓝预浓缩样品前处理技术，是测定电镀液中超痕量杂质的理想选择。

英蓝基体消除技术可以在线全自动除去样品中不带电或带相反电荷的基质（例如过氧化氢），从而简化样品前处理步骤并延长色谱柱寿命。英蓝预浓缩技术可以提高检测灵敏度，能够分析 ng/L 范围内的杂质。将两项技术联用就可以实现对电镀槽液进行全自动分析。

应用范围：