滴定/水分/イオンクロマトグラフィ/近赤外分析/ラマン分光/ポテンショスタット/ガルバノスタット/プロセス分析/pH/イオン/導電率/DO/酸化安定性試験/ボルタンメトリー/CVS
アプリケーション（技術資料）
イオンクロマトグラフィのお勧め技術情報！【コラム】ご隠居達のIC四方山話
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- 8.000.6041Simultaneous determination of fluoride species plus acid anions in etching baths by ion chromatography with dual detection
This poster presents a straightforward ion chromatographic determination of HF, HNO3, short-chain organic acids and H2SiF6 in etching bath samples. Standard ions such as fluoride, nitrate, acetate and sulfate are determined via suppressed conductivity detection while dissolved silicate is spectrophotometrically detected in the same run after downstream post-column reaction (PCR) as molybdosilicic acid. Analytical results of several commercial HF-HNO3-H2SiF6 mixtures obtained by ion chromatography (IC) and titration showed good agreement, which confirms the applicability of the presented «dual» detection IC method for controlling the composition of acidic texturing baths.
- AB-014Determination of nickel by potentiometric titration
A potentiometric method for the determination of nickel in gold and silver electroplating baths is described. The titration is carried out with KCN. Gold and silver are removed before titration by a reduction process. It is also possible to determine nickel in steel alloys, etc. (see the literature reference).Ni2+ + 4 KCN + 2NH4+ → (NH4)2[Ni(CN)4] + 4 K+
- AB-016自動滴定装置による黄銅、青銅、洋白および電気めっき浴中の銅の定量 分析手順
銅の定量分析方法について説明します。試料を溶解し、KI/KCNS溶液を加えた後遊離したヨウ素をチオ硫酸で逆滴定します。終点検出は電位差滴定装置で行い ます。
- AB-018自動滴定装置による電気めっき浴の品質管理や合金中の金と銅の同時測定
この技術資料では、Fe(II) 溶液を滴定液として使用し、電位差自動滴定装置で金と銅を同時に測定する方法について紹介しています。Fe(II) は Au(III) を直接還元して遊離金属にしますが、Cu(II) は反応しません。フッ化物イオンを加えると、Fe(III) は錯体を形成し、酸化還元電位がシフトします。その後、ヨウ化カリウムを加えて Cu(II) を Cu(I) に還元し、遊離ヨウ素を Pt ティトロード電極を使用して、Fe(II) 溶液で再度滴定します。
- AB-036ポーラログラフィーによる測定のための金属イオンの半波電位
次の表では、90の金属イオンの半波電位またはピーク電位が列記されています。半波電位 (ボルト/ V に列記) は、特別に明記されていない限り、25°Cで滴下水銀電極 (DME) で測定されます。
- AB-046シアン化物の電位差測定
シアン化物の測定は、電気めっき槽や廃水の浄化だけでなく、その高い毒性のため、一般的な水サンプルにおいても非常に重要です。0.05 mg/LのCN-濃度でも、魚類にとって致死的となる可能性があります。 この技術資料では、電位差滴定法を用いて、様々な濃度のサンプル中のシアン化物を測定する方法について紹介しています。
- AB-061銀の電位差測定 - EN ISO および GB/T 規格に従った正確な測定
銀は宝飾品と食器だけではなく、電気伝導体および電気接点においても重要な金属です。純銀、銀合金中の正確な銀含有量を知ることにより、宝飾品および銀食器の品質基準を満たしていることを保証することができます。めっき工業では、銀めっき浴槽中の銀の総量を知ることが、めっき浴を効率的に実施するために役立ちます。蛍光Ｘ線 (XRF) は、純銀と銀合金中の銀含有量を迅速に測定するための方法のひとつですが、これは金属の最も外側の部分の銀含有量しか測定できません。対照的に滴定は、サンプル全体について考慮すれば、厚めっきによる不正を防止する、より包括的なソリューションを提供します。このApplication Bulletinでは、EN ISO 11427、ISO 13756、GB/T 17823 および GB/T 18996に従った純銀、銀合金中の銀の、および銀めっき浴に含まれる銀の、それぞれ臭化カリウムまたは塩化カリウムでの滴定による電位差測定について説明しています
- AB-066電位差滴定装置および温度滴定装置によるホウ酸の測定
核発電所の一次冷却系、ニッケルめっき浴、光学ガラス製造、洗剤、肥料などで使用されるホウ酸およびホウ素化合物の電位差滴定装置・温度滴定装置による定量法を紹介します。酸分解を行うことで他のホウ素化合物にも適用できます。
- AB-074アノードストリッピングボルタンメトリーによるアンチモン、ビスマス、および銅の測定
このApplication Bulletinでは、アンチモン、ビスマス、および銅の成分のボルタンメトリー測定について書かれています。この3つの成分の検出限界は、0.5～1 µg/Lです。
- AB-089自動滴定装置による陽極酸化浴の測定（めっき浴の分析）
この技術資料では、自動滴定装置を使用した硫酸およびクロム酸陽極酸化浴の検査法について解説します。主成分であるアルミニウム、硫酸、クロム酸に加え、塩化物、シュウ酸、硫酸塩も測定します。
- AB-090自動滴定装置による錫めっき浴の分析
このアプリケーションでは、酸性およびアルカリ性スズめっき浴の分析のための電位差滴定法を紹介します。 スズ(II) / スズ(IV) / 総スズ、遊離フッ化ホウ酸または遊離硫酸、酸性スズ浴中の塩化物、アルカリ性スズ浴中の遊離水酸化物および炭酸塩を測定しています。
- AB-091自動滴定装置による真鍮および⻘銅めっき浴の分析
Methods are described for the potentiometric analysis of the following bath components:Brass plating bath: copper, zinc, free cyanide, ammonium, carbonate, and sulfite.Bronze plating bath: copper, tin, and free cyanide.
- AB-092自動滴定装置による酸性鉛および鉛、スズめっき浴の分析
This Bulletin describes the potentiometric determination of lead, tin(II), and free fluoroboric acid.
- AB-093自動滴定装置によるカドミウムめっき浴の測定
このアプリケーションでは、カドミウムめっき浴に含まれる、カドミウム、遊離水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、および総シアン化物の滴定法について解説します。 遊離シアン化物は、総シアン化物とカドミウム含有量から算出できます。
- AB-101銅イオン選択性電極を用いたキレート滴定
この技術資料では金属イオンのキレート滴定、電位差滴定について記述します。滴定の終点検出には、銅イオン選択性電極を用います。電極はキレート物質と直接応答しないので、対応する銅錯体を溶液に添加します。この電極を用いれば、水の硬度を定量することや、電気めっき液や金属塩、鉱物、鉱石中の金属濃度を分析することが可能です。以下の金属イオンが定量できます：Al3+、Ba2+、Bi3+、Ca2+、Co2+、Fe3+、Mg2+、Ni2+、Pb2+、 Sr2+、Zn2+
- AB-102Conductometry
This bulletin contains two parts. The first part gives a short theoretical overview while more details are offered in the Metrohm Monograph Conductometry. The second, practice-oriented part deals with the following subjects:Conductivity measurements in general; Determination of the cell constant; Determination of the temperature coefficient; Conductivity measurement in water samples; TDS – Total Dissolved Solids; Conductometric titrations;
- AB-121イオン選択性電極を用いた野菜・飲料・肥料中の硝酸塩測定
食品から硝酸塩を過剰に摂取すると、特に小さな子供や感受性の高い大人にチアノーゼが起こることが以前から知られています。WHO の規格では、人が c(NO3-) ≥ 50 mg/L の硝酸塩を摂取すると危険とされています。しかし、最近の研究では、人体内の硝酸塩濃度が高すぎると、（亜硝酸塩を介して）発がん性が指摘され、さらに危険なニトロソアミンが生成される可能性があることが明らかになりました。硝酸アニオンを測定するための既知の測光メソッドは、時間がかかり、広範囲にわたる干渉を受けやすくなります。硝酸塩分析の重要性がますます高まる中、選択的かつ迅速で、比較的正確な分析法の要求も高まっています。この技術資料では、水サンプル、土壌抽出物、肥料、野菜、飲料の硝酸塩濃度を迅速測定した応用例を紹介しています。
- AB-130電位差滴定法による塩化物の測定
塩化物の滴定は、酸塩基滴定と共に、最も頻繁に用いられる滴定分析法の一つです。この技術資料では、自動滴定装置を用いて幅広い濃度の塩化物を測定する方法について解説しています。
- AB-132Polarographic determination of molybdenum in strongly ferruginous materials
A method is described in this Bulletin that allows molybdenum to be determined in steel and other materials containing a high iron concentration. Mo(VI) is determined at the dropping mercury electrode by catalytic polarography. The determination limit is approx. 10 μg/L Mo(VI).
- AB-140Titrimetric sulfate determination
This Bulletin describes three potentiometric, one photometric, one thermometric and one conductometric titration method for sulfate determination. The question of which indication method is the most suitable depends primarily on the sample matrix.Method 1: Precipitation as barium sulfate and back titration of the Ba2+ surplus with EGTA. Use of the ion-selective calcium electrode as indicator electrode.Method 2: As with Method 1, although with the electrode combination tungsten/platinum.Method 3: Precipitation titration in semi-aqueous solution with lead nitrate in accordance with the European Pharmacopoeia using the ion-selective lead electrode as indicator electrode.Method 4: Photometric titration with lead nitrate, dithizone indicator and the Optrode 610 nm, particularly suitable for low concentrations (up to 5 mg SO42- in the sample solution).Method 5: Thermometric precipitation titration with Ba2+ in aqueous solution, particularly suitable for fertilizers.Method 6: Conductometric titration with barium acetate in accordance with DIN 53127
- AB-176アノードストリッピングボルタンメトリーによる鉛および錫の測定
多くの電解質において鉛と錫のピーク電位はあまりにも近接しているため、電圧電流法での測定は不可能です。特に片方の金属が過度に存在している場合に、その困難は生じます。メソッド1では、Pb および Sn の測定について説明しています。アノードストリッピングボルタンメトリー (ASV) は、臭化セチルトリメチルアンモニウムを添加した上で用いられます。このメソッドは以下の場合に使用されます:• 主に Pb について調査したいとき• Pbが過度に存在しているとき• Sn/Pb の比率が200:1を超えないときメソッド1に従って、Sn とPb は、濃度差が高過ぎず、Cd が含まれていなければ、同時に測定することができます。メソッド2は微量の Sn と Pb が検出されている、または、TI および/または Cd イオンが存在する場合に適用されます。このメソッドは、メチレンブルーの添加されたシュウ酸緩衝液において DPASV も使用します。
- AB-192ポーラログラフィーおよびカソードストリッピングボルタンメトリーによる低いmg/Lおよびµg/L範囲におけるチオ尿素の測定
チオ尿素は、水銀と共に不溶性の高い化合物を形成します。その結果生じる陽極波はチオ尿素のポーラログラフィー測定に用いられます。ごく少量 (µg/L) の分析にはカソードストリッピングボルタンメトリー (CSV) が用いられます。示差パルス測定モードはいずれのケースにも用いられます。
- AB-195ニッケルめっき浴中の遊離ホウ酸および テトラフルオロホウ酸の滴定法
このアプリケーションは、ニッケルめっき浴中の遊離ホウ酸および遊離テトラフルオロホウ酸の同時電位差滴定法について解説しています。
- AB-196ポーラログラフィーによるホルムアルデヒドの測定
ホルムアルデヒドは DME で還元的に測定することが可能です。サンプル組成によって、サンプルでホルムアルデヒドを直接測定できるかどうかは異なります。干渉が生じる場合、吸収、抽出、または蒸留などのサンプル前処理が必要となります。ここでは2つのメソッドについて説明します。1つ目のメソッドでは、ホルムアルデヒドはアルカリ性溶液にて直接還元されます。高濃度のアルカリ度またはアルカリ土類金属は干渉します。このような場合は、2つ目のメソッドを使用することができます。ホルムアルデヒドは、酸性溶液にてポーラログラフィーによって測定することのできるヒドラゾンを形成するヒドラジンを用いて誘導体化されます。
- AB-344Automated analysis of etch acid mixtures for silicon substrates with thermometric titration
This bulletin deals with the automated determination of mixtures of HNO3, HF and H2SiF6 in the range of approximately 200-600 g/L HNO3, 50-160 g/L HF, and 0-185 g/L H2SiF6 using thermometric titration.Etch acid mixtures containing HNO3, HF and H2SiF6 from the etching of silicon substrates can be analyzed in a sequence of two determinations using the 859 Titrotherm. The first determination involves a direct titration with standard c(NaOH) = 2 mol/L, followed by a back titration with c(HCl) = 2 mol/L. This determination yields the H2SiF6 content plus a value for the combined (HNO3+HF) contents. The second determination consists of a titration with c(Al3+) = 0.5 mol/L to determine the HF content. For freshly made up mixtures of HNO3 and HF containing no H2SiF6, a linked two-titration sequence is employed. Results from the two determinations are used by tiamoTM to yield individual results for HNO3, HF and H2SiF6.
- AB-420動的加算ボリュームを使用したキャリブレーション手法«smartDT»を使用したCVSによるサプレッサーの決定
Application Bulletinは、smartDTによる酸性銅浴中のサプレッサーの測定について説明しています。希釈滴定（DT）によるサプレッサーの測定には、評価比に到達するための標準溶液またはサンプルの多数の添加が含まれます。通常、固定された等距離の追加ボリュームが使用されます。smartDTでは、ソフトウェアによって動的に計算される可変加算量が使用されます。最初は、ボリュームが大きくなっています。評価率に向けて、添加量を少なくし、精度の高い結果を保証します。オペレーターは、使用する最初の最小の追加ボリュームを定義します。その間のすべてのボリュームは、決定の進行状況を考慮してソフトウェアによって計算されます。追加ボリュームが固定された従来のDTと比較して、smartDTを使用すると、最大40％の時間を節約できます。 smartDTは、線形補間だけでなく、非線形回帰と2次回帰にも適しています。酸性銅浴、スズおよびスズ鉛浴のサプレッサーの測定に使用でき、1、2、および3mmのPt作用電極で機能します。サプレッサー標準またはサンプルの自動追加には、800Dosinoが必要です。この方法は、完全に自動化されたシステムでも使用できます。
- AN-C-069Zinc, sodium, calcium, and magnesium in an industrial bath
Determination of zinc, sodium, calcium, and magnesium in an industrial bath containing cooling lubricants using cation chromatography with direct conductivity detection.
- AN-COR-001腐食 パート 1 - 基本概念
腐食とは、金属の劣化やそれを伴うプロセスを指します。腐食の最も一般的な例は、鉄における錆(さび)の形成です。ほとんどの腐食現象は電気化学的な性質を持ち、腐食する金属の表面で少なくとも2つの反応が起こります。
- AN-COR-002腐食 パート 2 - NOVAソフトウェアを用いた腐食パラメータの計算
電気化学的手法は、腐食速度の測定に用いられてきた従来の方法に代わる方法を提供します。例えば、金属材料が腐食する速度である腐食速度は、リニアスイープボルタンメトリー(LSV)のようなシンプルな電気化学測定から計算することができます。
- AN-COR-003分極抵抗の測定
分極抵抗（Rp）は、Tafel解析に代わる手法として、金属の耐食性を定量的に評価することが可能です。その測定手法および実用的な適用については、ASTM G59に記載されている内容に基づき解説されています。本手法により、腐食速度や材料の保護効果を効率的に評価することが可能であり、耐食性試験における信頼性の高い指標として利用されています。
- AN-COR-005腐食 パート 5 - 腐食抑制剤
腐食抑制剤は、金属の腐食速度を低下させる物質です。腐食抑制剤は通常、腐食環境に少量の濃度で添加されます。この技術資料(アプリケーションノート)では、Metrohm Autolabの装置を用いて、腐食抑制剤の品質をチェックする方法を紹介します。
- AN-COR-006ASTM G150 に準じた臨界孔食温度 (CPT)の測定
この技術資料(アプリケーションノート)は、高温での孔食形成に対するステンレス鋼およびステンレス鋼に関連するその他の合金の耐性を試験するために開発された ASTM 規格 G150 に基づいています。 これは、電位に依存しない臨界孔食温度 (CPT) を測定することによって達成されます。CPT は、孔食が発生する最低温度として定義されます。 CPT実験は、セル温度を上昇させながらサンプルに電位を印加し、電流を記録します。
- AN-COR-0093種のコーティングがされたアルミニウムサンプルの電気化学インピーダンス分光法
この技術資料(アプリケーション ノート)では、段階的溶解測定 (SDM) の前後で、EIS を 3 つのコーティングされたアルミニウム サンプルに適用します。 この手法は、技術資料(アプリケーション ノート) AN-COR-08でレビューされています。
- AN-COR-010各種金属の電気化学的腐食研究
金属の腐食は、多くの産業分野だけでなく、私生活にも深刻な影響を及ぼし、莫大なコストをもたらす問題となります。この技術資料(アプリケーションノート)では、様々な金属の電気化学腐食試験で得られた結果を文献データと比較します。
- AN-COR-011ASTM G100: サイクリックガルバノ階段波分極法
ASTM 規格 G100 は、アルミニウム 3003-H14 およびその他の合金の局部腐食を試験する電気化学的手法です。周期的なガルバノ階段波分極（galvanostaircase）は、上方向および下方向のスキャンから構成されます。各ステップ終了時の電位値を収集し、線形フィッティングを行い、零電流における電位値を求めます。
- AN-COR-012ASTM G5: Potentiodynamic anodic polarization measurements
This Application Note evaluates corrosion in Type 430 stainless steel according to ASTM G5 with VIONIC powered by INTELLO and an ASTM-compliant corrosion cell setup.
- AN-COR-014ASTM G185 に準拠した Autolab 回転円筒電極 (RCE) を用いた乱流条件における腐食防止剤（抑制剤）の効率測定
液体がパイプラインを通って輸送されるときに発生する乱流を実験室環境でシミュレートするために、回転円筒電極 (RCE) は腐食研究で用いることのできる技術です。 パイプライン内壁の腐食は、パイプ材料とパイプを流れる流体との間の電気化学的相互作用によって発生します。そして、そのの腐食は、パイプライン内部で発生する流れの乱れ（乱流）により著しく促進されます。 回転円筒電極(RCE)は、サンプル表面に乱流を発生させながら使用することができます。言い換えれば、ある内径のパイプラインを通過する流量既知の液体の乱流とその材料表面への影響は、コントロールされた速度で回転する所定のシリンダーサイズ（パイプと同じ材料で作られた）のRCEを用いることにより、実験室環境で再現することができます。 したがって、回転円筒電極(RCE)の主な用途のひとつは、配管の流動条件を模擬した簡単で迅速な電気化学実験で、腐食防止剤の効率や配管材料の腐食のしやすさを試験することにあります。 回転円筒電極(RCE)を用いる標準試験は規格ASTM G185 [1 ]に規定されています。 この技術資料(アプリケーションノート)では、1018炭素鋼シリンダーをサンプルとした回転円筒電極(RCE)による直線分極(LP)測定技術を説明します。電解液に腐食防止剤の添加有無の2種類のLP実験を行いました。
- AN-COR-015回転円筒電極 (RCE) を用いた静止および乱流状態での腐食率測定
回転円筒電極 (RCE) は、その円筒周囲の流れ条件をリアルにシミュレーションし、サンプル表面で乱流を発生させるために用いられています。この 技術資料(アプリケーションノート)では他のすべての実験条件を変えずに腐食率が測定され、静止と乱流の状態が比較されています。直線分極 (LP) 技術は、RCE (回転あり、および回転なし) と共に用いられました。
- AN-COR-016サイクリックポテンシオダイナミック分極試験の標準試験法
本アプリケーションノートでは、MetrohmのASTM準拠腐食セルを用い、VIONIC（INTELLO搭載）によって実施されたASTM G61準拠の腐食測定について詳細に解説いたします。
- AN-COR-017ASTM B825 に準じた電量還元法
ASTM B825は、金属表面の腐食と変色膜を測定するために用いられます。これは、いわゆるカソード還元法が用いられます。Metrohm Autolab PGSTAT302Nと 1 L腐食セルを用いて、ASTM B825に準じた測定手順をご紹介します。
- AN-COR-018ISO 17463に準じた Autolab PGSTATを用いた金属上の有機塗膜の評価 - 塗料およびワニス
国際規格 ISO 17463は、金属上の高インピーダンス有機保護被膜の防食特性の測定について記載しています。この技術では、電気化学インピーダンス分光法（EIS）測定、カソード分極、ポテンシャル緩和から構成されるサイクルを用います。この技術資料(アプリケーションノート)では、Metrohm Autolab PGSTAT M204とフラットセルが国際規格 ISO 17463に準拠していることを示します。
- AN-COR-019INTELLOソフトウェア を用いた腐食速度の測定
ターフェル解析は、反応速度論を理解するために用いられる重要な電気化学的手法です。ターフェル勾配を研究することで、電極反応における反応速度を律速する要因が明らかになり、腐食や燃料電池の研究などの分野に役立ちます。この手法は、産業界がプロセスを最適化し、より高い効率を得るために材料や条件を調整することによってデバイスの性能を向上させるのに役立ちます。 腐食に関しては、ターフェル解析により、様々な環境における各種金属の腐食速度とそのメカニズムに関する洞察を得ることができます。ターフェル勾配を調べることにより、研究者は分極抵抗と腐食速度だけでなく、腐食電流と腐食電位を測定することができ、材料が周囲環境とどのように相互作用するかを明らかにすることができます。構造物の寿命を延ばし、厳しい環境における金属部品の完全性を確保するために、この測定・解析は腐食を軽減させるための適切なコーティング剤、抑制剤、材料を選択する際に役立ちます。 この技術資料（アプリケーションノート）では、人工海水中のアルミニウムを例にINTELLOソフトウェアを用いたターフェル解析について説明します。
- AN-EC-002参照電極とその使用法
電気化学電池では付加電位または測定電位が参照されるのに対し、参照電極は安定かつ適切に定義された電気化学的ポテンシャル (一定の温度において) を有します。そのため、良い参照電極は安定しており、非分極性です。言い換えると、このような電極の電位は使用される環境において、また低い電流通過においても安定性を維持します。このApplication Noteでは、もっともよく使用されている参照電極が、その使用範囲と共にリストアップされています。
- AN-EC-011Autolab 回転リングディスク電極 (RRDE) を用いた銅の電着における中間体についての調査
銅はほぼ間違いなく、特に半導体産業において科学技術的に最も関連性のある金属の1つでしょう。この産業で用いられる蒸着プロセスは、デュアルダマシンプロセスとして知られ、それは添加物が存在する上で、酸性の第二銅化合物からの銅の電着に作用します。このApplication Noteでは、銅の電着についての調査と、Cu+中間体検出のための Autolab 回転リングディスク電極 (RRDE) の使用について説明されています。
- AN-EC-015水サンプル中の重金属イオン検出のための Metrohm 663 VA stand
溶液中の重金属イオンの測定は、最も成功を収めた電気化学のアプリケーションの1つです。この Application Note では、水道水のサンプル中の2つの検体の存在を測定するのにアノーディックストリッピングボルタンメトリーが用いられています。
- AN-EC-028Measuring hydrogen permeation according to ASTM G148
In this Application Note, hydrogen permeation experiments are conducted following the procedure described in the ASTM standard G148.
- AN-EC-032ASTM G148に準拠した単一機器による水素透過試験
The Devanathan-Stachurski cel（または「Hセル」）は、シートや膜を通過する水素の透過性を評価するために広く使用されています。シートや膜を通過する水素の量は非常に少ないため、その検出には高感度なポテンショスタットが必要となります。本アプリケーションノートでは、さまざまな鉄シートの水素透過特性を、装置の要件を考慮しながら検討しています。
- AN-EIS-001電気化学インピーダンス分光法 (EIS) その1 - 基本的原理
電気化学インピーダンス分光法 (EIS) は、電気化学的システムの特性解析のための強力な技術です。近年、EISは材料の特性解析の分野において広範囲に及ぶ用途を見出してきました。これは日常的に、コーティング、バッテリー、燃料電池、および腐食現象の特性解析に用いられます。このApplication Noteでは、EIS測定の原理についてご覧いただけます。
- AN-EIS-002電気化学インピーダンス分光法 (EIS) その2 - 実験準備
このApplication Noteでは、電気化学電池における様々な接続のタイプや装置のセッティングなど、EISを実施するための準備について説明されています。
- AN-EIS-003Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS) Part 3 – Data Analysis
Here, the most common circuit elements for EIS are introduced which may be assembled in different configurations to obtain equivalent circuits used for data analysis.
- AN-EIS-004Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS) Part 4 – Equivalent Circuit Models
Explore how to construct simple and complex equivalent circuit models for fitting EIS data in this Application Note. Nyquist plots are shown for each example.
- AN-EIS-005電気化学インピーダンス分光法 (EIS) その5 - パラメータ推定
等価回路モデルに関するApplication Note AN-EIS-004では、等価回路モデルの構築に用いられる様々な回路素子の概要が示されています。分析中のシステムに適したモデルが確認された後、データ分析における次のステップはモデルパラメータの推定です。これは、モデルのデータへの非線形回帰によって行われます。多くのインピーダンスシステムは、データフィッティングプログラムを伴います。このApplication Noteでは、データをフィットさせるのにNOVAを用いた方法が紹介されています。
- AN-EIS-006電気化学インピーダンス分光法 (EIS) その6 - EISにおける生の信号の測定
このApplication Noteでは、電気化学インピーダンス測定中の個々の周波数のための生のタイムドメインデータの記録の長所について説明されています。
- AN-EIS-007EISデータの当てはめ - 等価回路要素の良い開始値を得るための方法
電気化学インピーダンス分光法 (EIS) は、電極内部液インターフェースにおいて生じるプロセスに関する情報を提供する強力な技術です。EISによって集められたデータは、適正な電気等価回路でモデル化されます。当てはめ手順により、数学関数が実験データの一定の差の内に収まるまで、パラメータの値が変更されます。このApplication Noteでは、許容できる初期パラメータを獲得し、正確な当てはめを実施するためのいくつかの提案が述べられています。
- AN-H-004Determination of fluoride by boric acid titration
Determination of fluoride in industrial solutions such as acid etching mixtures.
- AN-H-005Determination of cuprous ions in the presence of ferrous ions
Determination of cuprous ions in the presence of ferrous ions in electrochemical copper leaching solutions.
- AN-H-014Determination of free acid content of solutions containing Fe(III)
Determination of free acid in solutions containing metal ions, particularly Fe(III).
- AN-H-016Determination of acetic, phosphoric, and nitric acid mixtures
Determination of mixtures of phosphoric, nitric, and acetic acids used in etching aluminum in the manufacture of semiconductor devices.
- AN-H-021Determination of free acid in copper refining solutions
Determination of free acid in copper refining solutions.
- AN-H-023Determination of nickel by dimethylglyoxime titration
Determination of nickel in the absence of cobalt and other interferences.
- AN-H-037Determination of phosphate in an acid etching mixture
Determination of phosphate content in an acid etching bath.
- AN-H-043Determination of copper by iodometric titration
Determination of copper, principally in copper mining and refining solutions. The method may also be used fordetermination of purity of copper metal. Optimal results are obtained when aliquots containing copper in the rangeapproximately 3 - 6 mmol Cu are titrated.
- AN-H-047Determination of nickel by EDTA back-titration
Determination of nickel in refinery and plating solutions. When other metals capable of being complexed by EDTA are present, these will interfere and enhance the result for nickel.
- AN-H-049Determination of nickel by titration with disodium dimethylglyoximate
Determination of nickel in solution by titration with standard disodium dimethylglyoximate.
- AN-H-051Determination of sodium hypophosphite
Determination of sodium hypophosphite in electroless plating solutions.
- AN-H-052Determination of nickel in electroless plating solutions
Thermometric titration of nickel in electroless plating solution with disodium dimethylglyoximate.
- AN-H-053Determination of aluminum by fluoride titration
Determination of aluminum in acidic, basic, and neutral solutions; including aluminum chloride, aluminum chlorohydrate (also in anti-perspirant formulations), alum, etching solutions, and aluminate solutions.
- AN-H-070Determination of ferric and cupric Ions in copper refining solutions
Determination of Fe3+ and Cu2+ in copper refining solutions by thermometric titration. It was found that the conventional approach of masking Fe3+ to permit the iodometric determination of Cu2+ is not possible in some copper refining solutions.
- AN-H-087Determination of hydrofluoric acid by aluminum titration
Determination of hydrofluoric acid in mixed acid etchant solutions.
- AN-H-090Nickel in electroless nickel solutions by thermometric EDTA titration
Automated thermometric titration of the nickel content of electroless nickel plating solutions. The determination is suitable for fully automated titration employing a 814 Sample Processor.
- AN-H-093Determination of boric acid by fluoride titration
Determination of boric acid in electroless plating solutions.
- AN-H-114Determination of sulfuric acid, nitric acid, and hydrofluoric acid in etch solutions
Two separate titration sequences are required to analyze the mixture:- titration of the HF content with Al(NO3)3 (the «elpasolite» reaction)- titration of the H2SO4 with BaCl2 followed by titration with NaOH to determine the «total acids» contentThe HF, H2SO4, and «total acids» contents are converted to a HNO3 equivalent, with the HNO3 content found by subtracting the HF and H2SO4 from the «total acids» content.
- AN-H-115Determination of hydrofluoric acid, ammonium fluoride, and maleic acid in acid cleaning solutions
A direct thermometric titration (TET) with 2 mol/L NaOH is used to determine the HF, NH4F, and maleic acid (C4H4O4) contents of acid cleaning solutions. Three endpoints (EPs) are obtained, which may be assigned as follows:EP1: C4H4O4 (pKa1 = 1.9), HF (pKa = 3.17)EP2: C4H4O4 (pKa2 = 6.07)EP2: NH4F (pKa = 8.2)The HF content is determined by subtracting the difference (EP2-EP1) from EP1.
- AN-H-118Determination of hydrochloric acid in acidic solutions containing iron and aluminum
The presence of the hydrated ion [Fe(H2O)6]3+ can interfere with the determination of «free acid» due to the low pKa value (~2.2) of this ion. Ions of metals such as Fe, Cu, and Al can be masked effectively with fluoride, and permit the determination of the acid content by thermometric alkalimetric titration with good accuracy and precision.
- AN-H-126Determination of silver and nitric acid in silver electrolyte bath
Silver and nitric acid are determined in silver electrolyte solutions by means of thermometric titration. The method provides accurate results in a short time and is ideally suited for routine process control.
- AN-H-134Determination of sulfuric acid and phosphoric acid in etching baths using thermometric titration
Thermometric titration can be used for the ready determination of sulfuric acid and phosphoric acid in acid mixtures. An endpoint for each acid appears on the titration curve that can be used to quantify the respective acid.
- AN-H-135Determination of hydrochloric acid and phosphoric acid in etching baths using thermometric titration
Thermometric titration is used for the determination of hydrochloric acid and phosphoric acid in acid mixtures. Two endpoints appear on the titration curve that are used for the determination of the two acids.
- AN-H-136Determination of hydrochloric acid and nitric acid in etching baths using thermometric titration
Thermometric titration is used for the determination of hydrochloric acid and nitric acid in acid baths. The entire acid content is titrated with caustic soda in the initial titration; the hydrochloric acid content is then determined in a second titration using silver nitrate solution.
- AN-H-137Determination of hydrochloric acid and hydrofluoric acid in etching baths using thermometric titration
Thermometric titration is used to determine hydrochloric acid and hydrofluoric acid (hydrogen fluoride) in etching baths containing ethanol and acetonitrile. Two endpoints appear on the titration curve that are used individually for the quantification of the respective acid.
- AN-H-138Determination of nitric acid and hydrofluoric acid in etching baths using thermometric titration
Thermometric titration is used to determine hydrofluoric acid and nitric acid in etching baths containing ethanol and acetonitrile. Two endpoints appear on the titration curve that are used individually for the quantification of the respective acid.
- AN-H-140Titration of phosphoric, nitric, and acetic acid mixtures
Nitric acid, phosphoric acid, and acetic acid are easily determined in etching baths using thermometric titration (TET). Compared to potentiometric titration, TET is faster and more convenient. Analysis is complete in less than two minutes.
- AN-H-143酒石酸硫酸陽極酸化処理槽における硫酸および酒石酸 - 温度センサーを用いた迅速かつ逐次的な測定 (TET)
酒石酸硫酸陽極酸化処理 (TSA) は 航空宇宙産業における腐食保護のための確立された技術です。これは環境に無害なクロム酸陽極酸化プロセスに対する選択肢の1つです。それゆえ、TSAめっき浴における硫酸および酒石酸のレベルをモニタリングするメソッドが必要とされます。これまでに電位差滴定メソッドが開発され、業界で幅広く使われています。この短所は、異なる電極と溶媒を用いる2つの滴定が必要だということです。このApplication Noteでは、2つの酸の濃度を温度センサーを用いて順次測定する代替メソッドが紹介されています。電位差滴定に比べると、TETはより速く、より便利な方法です (センサーのメンテナンス不要)。完全自動システムでは、両パラメータの測定に、およそ7分かかります。
- AN-I-004イオン選択性電極(ISE)を用いた銅めっき浴中の硝酸イオンの定量
硝酸塩をアンモニウムに変換した後、銅めっき浴中の硝酸塩を定量します。イオン選択性電極(NH3-ISE)を用いた直接電位測定法です。
- AN-I-005イオン選択性電極を用いたクロムめっき浴中のふっ化物の定量
イオン選択性電極 (F-ISE) を用いた直接電位差測定によるクロムめっき浴中のふっ化物の測定
- AN-N-063Nitrate in a nickel plating bath
Determination of nitrate in a nickel plating bath using anion chromatography with UV/VIS detection (205 nm).
- AN-O-011Citrate and saccharin in a nickel plating bath
Determination of citrate and saccharin in a nickel plating bath using ion-exclusion chromatography with direct conductivity detection.
- AN-O-012Gluconate and salicylate in a zinc plating bath
Determination of gluconate and salicylate in a zinc plating bath using ion-exclusion chromatography with direct conductivity detection.
- AN-O-013Lactate, formate, and acetate in a cataphoretic paint bath
Determination of lactate, formate, and acetate in a cataphoretic paint bath using ion-exclusion chromatography with direct conductivity detection.
- AN-O-014Citrate, fluoride, lactate, and acetate in a plating bath
Determination of citrate, fluoride, lactate, and acetate in a plating bath using ion-exclusion chromatography with direct conductivity detection.
- AN-O-020Citric acid and lactic acid in an electroplating bath
Determination of citric acid and lactic acid in an electroplating bath using ion-exclusion chromatography with conductivity detection.
- AN-PAN-1012無電解ニッケルめっき浴中のニッケルイオンおよび次亜りん酸塩含有量のオンライン分析
純粋なニッケルは銀白色の金属で、非常に硬く、耐食性があり、延性があります。これらの顕著な特性のために、ニッケルは、主にコーティングおよび表面工学において多くのアプリケーションで使用されています。無電解ニッケルめっきは、ニッケル‐リン合金の層を工作物の表面にめっきするための自己触媒化学技術です。この方法は、めっきのために金属イオンと反応する還元剤（次亜リン酸ナトリウム）の含有量に依存します。 しかし、めっき浴の薬品の寿命は限られているので、薬品の消費を自動的に監視することが重要なプロセス制御要件となります。めっき浴を長時間使用すると、薬品中の電解質は反応生成物で過負荷になり、工作物の表面および層の特性に悪影響を及ぼします。 このプロセスアプリケーションノートは、ニッケル‐リン合金の均一な層を確実にめっきさせるために、無電解ニッケルめっき浴中の各種活性浴成分を定期的にモニタリングする手法を提案します。
- AN-PAN-1018Online analysis of acids, bases, and aluminum in anodizing baths
Anodizing metal surfaces improves resistance against corrosion and wear. Etching baths can be monitored precisely online with the 2060 TI Process Analyzer or 2026 HD Titrolyzer.
- AN-PAN-1019Online and atline analysis of acids and iron in pickling baths
In steel production, the pickling process aims at preparing the steel surface for subsequent process steps. These pickling baths contain HCl, H2SO4, HNO3, HF, H3PO4, Fe2+, Fe3+. For reproducible surface treatment, bath composition has to be continuously monitored. This is best done with titration using rugged Metrohm Process Analyzers, as described in the following.
- AN-PAN-1067銅めっきプロセスにおける有機添加剤のオンライン分析
銅めっき浴における有機添加剤のモニタリングは重要です。2060 CVSプロセスアナライザーは、精密な浴制御を提供することで銅電気めっきを最適化します。
- AN-PAN-1068XRF法（蛍光X線分析法）による白色青銅めっき液の銅、スズ、亜鉛のオンライン分析
このアプリケーション ノートでは、2060 XRF プロセス アナライザーを使用して、白銅めっき浴内の銅、スズ、亜鉛の濃度をリアルタイムで化学モニタリングする方法について説明します。
- AN-PAN-1069蛍光X線分析法による亜鉛／ニッケルめっき浴のオンライン分析
2060 XRFプロセスアナライザーは、亜鉛ニッケルめっき浴内の元素濃度をオンラインで連続モニタリングし、化学薬品の添加を精密に制御します。
- AN-S-024Fluoride, chloride, and nitrate in an acidic nickel/zinc bath
Determination of fluoride, chloride, and nitrate in a solution of NiSO4, ZnSO4 in sulfuric acid using anion chromatography with conductivity detection after chemical suppression.
- AN-S-029Anions in an etching reagent
Determination of fluoride, nitrate, phosphate, and sulfate in an etching reagent using anion chromatography with conductivity detection after chemical suppression.
- AN-S-051Chloride, sulfate, chromate, and sulfonic acids in a chromium plating bath
Determination of chloride, sulfate, chromate, methanesulfonic acid (MSA), methanedisulfonic acid (MDSA), and ethanedisulfonic acid (EDSA) in a chromium plating bath using anion chromatography with conductivity detection after chemical suppression.
- AN-S-079Four anions in corrosion powder
Determination of fluoride, chloride, nitrate, and sulfate in corrosion powder using anion chromatography with conductivity detection after chemical suppression.
- AN-S-093Nitrate, phosphate, sulfate, and chromate in a cataphoretic paint bath
Determination of nitrate, phosphate, sulfate, and chromate in a cataphoretic paint bath using anion chromatography with conductivity detection after chemical suppression.
- AN-S-104Nitrate and sulfate in sodium phosphinate (sodium hypophosphite)
Determination of nitrate and sulfate in sodium phosphinate (sodium hypophosphite) using anion chromatography with conductivity detection after chemical suppression.
- AN-S-108Five anions in an electroplating bath after inline elimination of heavy metals
Determination of chloride, nitrite, nitrate, phosphate, and sulfate in an electroplating bath after inline elimination of heavy metals by cation exchange on the 793 IC Sample Prep Module using anion chromatography with conductivity detection after chemical suppression.
- AN-S-116Borate, chloride, and sulfate in a single run applying a step gradient
Determination of borate and chloride with direct conductivity detection (exhausted MSM). After the introduction of the fresh MSM unit and after the eluent change, sulfate is analyzed with conductivity detection after chemical suppression.
- AN-S-165Hypophosphite, phosphite, tartrate, tungstate, phosphate, citrate, and pyrophosphate in an electroplating bath
Determination of hypophosphite, phosphite, tartrate, tungstate, phosphate, citrate, and pyrophosphate in an electroplating bath using anion chromatography with a high pressure gradient and conductivity detection after chemical suppression.
- AN-S-190Five anions in a strongly alkaline solution containing 70 g/L vanadate
Determination of chloride, nitrite, nitrate, phosphate, and sulfate in a strongly alkaline solution using anion chromatography with conductivity detection after chemical suppression.
- AN-S-191Chloride, nitrite, and sulfate in a used zinc bath containing cooling lubricants
Determination of chloride, nitrite, and sulfate in a used zinc bath using anion chromatography with conductivity detection after chemical suppression.
- AN-S-192Online determination of acids in an etching bath with inline dilution
Determination of fluoride, nitrate, phosphate, sulfite, and sulfate in an etching bath using anion chromatography with conductivity detection after chemical suppression.
- AN-S-200Sulfate, molybdate, and chromate in plating baths
Determination of sulfate, molybdate, and chromate in a plating bath using anion chromatography with conductivity detection after chemical suppression.
- AN-S-209クロムめっき浴でのフッ化物、メチルスルホン酸、エチルジスルホン酸、メチルジスルホン酸
ケミカルサプレッション後の電気伝導度検出を伴う、陰イオンクロマトグラフィを用いたフッ化物、MSA (メチルスルホン酸)、EDSA (エチルジスルホン酸)、MDSA (メチルジスルホン酸) の測定を紹介しています。
- AN-S-213Nitrate in nickel plating bath
Determination of nitrate in a nickel plating bath using anion chromatography with UV/VIS detection (205 nm) after chemical suppression.
- AN-S-247Hypophosphite, phosphite, and phosphate in a nickel bath
Determination of hypophosphite, phosphite, and phosphate in a nickel bath using anion chromatography with conductivity detection after chemical suppression and inline cation exchange.
- AN-S-315Methanedisulfonic acid in chromium baths using nested dilution, Dosino Regeneration and STREAM
Methanedisulfonic acid (MDSA) is used as a catalyst in chromium plating baths. The MDSA concentration in the bath must be known in order to monitor the chromating. The analysis of a bath sample requires dilution by a factor of 2,500. This Application Note shows the automatic Inline Dilution that takes place in two steps. While one sample is being analyzed, the time-optimized dilution of the next sample is already running. The MSM is regenerated using an 800 Dosino and the STREAM setup: The eluent is used for rinsing the regenerated MSM after exiting the detector.
- AN-S-316Determination of brighteners in copper baths with the help of IC and Metrohm Inline Cation Removal in addition to column switching technique
Special brighteners are used in electroplating baths in order to provide the refined surfaces with greater brightness. The concentration of brighteners must be kept constant at all times in order to ensure uniform end product quality. This Application Note describes how brighteners are determined in parallel with IC and CVS. The corresponding CVS application can be found under AN-V-183.
- AN-S-328Sulfate in addition to chromate in bright chrome baths
Chrome plating is an important electroplating technique that covers metal or plastic surfaces with a thin layer of chromium for both protection and decoration purposes. The sulfate and sulfuric acid concentrations in the baths are important parameters in the coating process and require continuous monitoring. The anions in the chrome baths are separated on the Metrosep A Supp 5 - 250/4.0 column and are determined using conductivity detection in accordance with sequential suppression.
- AN-T-011ニッケルめっき浴中の陰イオン界面活性剤の定量
ニッケルめっき浴中の陰イオン界面活性剤は、「イオン性界面活性剤」電極を用い、TEGO®trant A100 による電位差滴定により定量します。
- AN-T-019銀めっき浴中のシアン化物および銀の定量
銀めっき浴中のシアン化物および銀は、Ag-ティトロード電極を用いた硝酸銀溶液による電位差滴定で同時に定量できます。
- AN-T-020クロムめっき浴中の六価クロム Cr(VI) および三価クロム Cr(III) の定量
白金電極を用いたヨウ素滴定法によるチオ硫酸ナトリウムでの電位差滴定によりクロムめっき浴中の六価クロム（Cr(VI)）および三価クロム（Cr(III)）を定量することができます。
- AN-T-021スズめっき浴中のスズ(II)イオンおよび硫酸の定量
酸性スズめっき浴中のスズ(II)イオンおよび硫酸は、自動滴定装置で定量できます。
- AN-T-022自動滴定装置によるカドミウム、銅、鉛、亜鉛のアルカリめっき浴中の シアン化物の測定
この技術資料では、Agティトロード電極を使用した硝酸銀による電位差滴定で、アルカリめっき浴中のシアン化物の測定したアプリケーションを紹介しています。
- AN-T-023カドミウム、銅、鉛、亜鉛のアルカリめっき浴中の水酸化物および炭酸塩
複合ガラス電極を使用したHClによる電位差滴定によるアルカリめっき浴中の水酸化物と炭酸塩の測定
- AN-T-024カドミウム、銅、鉛、亜鉛用アルカリめっき浴中の金属含有量
Cu-ISE電極を用いたEDTA電位差滴定により、アルカリ性めっき浴中のカドミウム、銅、鉛、亜鉛を定量します。
- AN-T-069自動滴定装置による鉄とニッケルの二元混合物の測定
このアプリケーションは、Cu ISE を使用して、さまざまな pH 値で EDTA による電位滴定により、2 成分混合物中の鉄とニッケルを測定しています。
- AN-T-071「イオン界面活性剤」電極を用いたパラジウムの定量
「イオン界面活性剤」電極を用いたヘキサデシルピリジニウムクロリドによる電位滴定装置によるパラジウム(II)の測定をおこなっています。
- AN-T-082光度滴定法によるニッケルの定量
このアプリケーションノートでは、オプトロード（520 nm）を用いたニッケルの光度計による定量分析について紹介しています。指示薬としてムレキシド、滴定剤としてEDTAを使用しました。
- AN-T-100自動滴定装置による酸性銅めっき浴中の塩化物イオンの測定
この技術資料では、電位差自動滴定装置を使用した酸性銅鍍金液浴中の塩化物イオン測定を紹介しています。
- AN-T-108自動滴定装置による水溶液中の亜鉛 (II) の完全測定
このアプリケーション ノートでは、銅イオン選択電極と MATi 07 システムを使用した水溶液中の亜鉛 (II) の完全自動錯滴定について解説しています。
- AN-T-118銅イオン選択性電極を用いた混合物中の亜鉛と マグネシウムの自動滴定
鉛イオンとマグネシウムイオンの混合物は、異なるpH値で逆滴定を行うこと で分析できます。指示電極にはイオン選択性銅電極を用いて、自動滴定装置で測定できます。
- AN-T-124自動滴定装置を使用した水溶液中の銅の光度滴定
この技術資料では、銅を520 nm の波長でEDTAを用いた光度滴定による測定を紹介しています。
- AN-T-223自動滴定装置による電気めっき浴の完全自動分析
電気めっきは、製品の表面を腐食や摩耗から保護し、その使用寿命を大幅に延ばすために利用されています。電気めっき浴の代表的な例としては、アルカリ性の脱脂浴、銅、ニッケル、クロムなどの金属や、塩化物、シアン化物といった成分を含む酸性またはアルカリ性の浴液です。OMNIS サンプルロボットシステムは、自動的にサンプルをピペッティングし、分析を行うことで、手動滴定と比較してより信頼性の高い結果が得られ、複数のパラメータを並行して分析できるため、時間効率も向上します。
- AN-T-234混合酸と TMAH の滴定で メトロームの滴定装置OMNIS と Titrando の比較実験
この技術資料は、メトロームの自動滴定装置OMNIS と 888タイトランドの両方を保有している台湾のお客様が、実際に比較実験して、アルミニウム エッチング浴中の硝酸、リン酸、酢酸の測定、水酸化テトラメチルアンモニウム (TMAH) の濃度定量をしたデータをいただいたものです。同一の分析パラメーターが使用され、OMNIS が他の滴定装置と同等またはそれ以上の結果をもたらすことが示されました。
- AN-T-249Analysis of rare earth metals based on ISO 23597
Purity of rare earth elements (REEs) can be determined by absolute complexometric titration with xylenol orange (ISO 23597). This approach achieves around 100% recovery, eliminates the need for calibration, and offers higher accuracy and reproducibility than techniques such as AAS (atomic absorption spectroscopy). Photometric titration with the Optrode M2 offers adjustable wavelength detection, providing a fast, precise, and cost-effective alternative to other conventional methods.
- AN-T-250Potentiometric analysis of rare earth elements (REEs)
Rare earth elements (REEs) are critical materials whose deposit viability and processing streams require accurate mass-fraction determination during ore dissolution and purification. This Application Note describes a rapid potentiometric back-titration using a copper ion-selective electrode (Cu-ISE) that enables selective quantification and partial separation of REEs in complex matrices with near-quantitative recovery. As an absolute, flexible, and cost-effective method with ICP-compatible sample preparation, back-titration is well suited both as a reference technique and for rapid on-site analysis.
- AN-U-025Saccharin and its degradation products (benzamide, o-toluenesulfonamide) in a nickel electroplating bath
Determination of saccharin, benzamide, and o-toluenesulfonamide in a nickel electroplating bath using RP chromatography with UV detection.
- AN-U-048Silicate and hexafluorosilicate
Determination of silicate and hexafluorosilicate (calculated) using anion chromatography with conductivity detection after chemical suppression (see AN S-277) and subsequent UV/VIS detection with post-column reaction. Hexafluorosilicate is hydrolyzed into fluoride and silicate. Both anion concentrations may be used for the calculation of the SiF62- concentration.
- AN-U-065Iodate and iodide in an electroplating bath applying direct UV/VIS detection
The determination of iodate and iodide in used electroplating baths is a demanding task due to the high concentration of other ions. Iodate is used as a stabilizer for the bath and needs to be checked for proper electroplating. The use of a sodium chloride eluent, the Metrosep A Supp 5 - 250/4.0 column and direct UV/VIS detection permits the analysis of these samples without matrix interferences.
- AN-V-015Nickel, antimony, cadmium, thallium, and copper in a neutral, highly concentrated zinc solution
Determination of Ni, Sb, Cd, Tl, and Cu in a neutral, highly concentrated zinc solution from the plating industry.
- AN-V-016銀めっき液中のニッケル(Ni)、鉄(Fe)、銅(Cu)の濃度測定
銀めっき液中の ニッケル(Ni)、鉄(Fe)、銅(Cu)の濃度測定を紹介しています。
- AN-V-017銀めっき液中の クロム(Cr) とセレン( Se) の濃度測定
銀めっき液中の クロム(Cr) とセレン( Se) の濃度測定を説明します。
- AN-V-018有機酸めっき液中のスズ(Sn)と鉛(Pb)の濃度測定
有機酸めっき液中のスズ(Sn)と鉛(Pb)の濃度測定について説明します。
- AN-V-019無電解ニッケルめっき液中の鉛(Pb)の濃度定量
無電解ニッケルめっきは、様々な工業生産プロセスで使用されています。プリント回路基板の製造におけるENIG（無電解ニッケル、無電解金）プロセスとENEPIG（無電解ニッケル、無電解パラジウム、無電解金）プロセスは、無電解ニッケルめっきプロセスの最初のステップであるため、この工程の歩留まりに大きく関与しています。めっき不良による規格外製品の量を減らすことで、メーカーは大幅なコスト削減を実現できます。 ディファレンシャル・パルス・アノード・ストリッピング・ボルタンメトリーは、希釈後の活性鉛(Pb)濃度を測定するために使用することができます。ボルタンメトリーによる定量は、この用途において、簡便、高感度、選択的で干渉を受けない方法として確立されています。
- AN-V-024エッチング液中の銅(Cu)とクロム(Cr)の濃度測定
エッチング液中の銅(Cu)とクロム(Cr)の濃度測定について説明します。マンガン(Mn)とニッケル(Ni)の濃度が高いため、銅(Cu)はEDTA錯体として、マンガン(Mn)はDTPA錯体として測定します。
- AN-V-026Iron and zinc in a nickel sulfate bath containing surfactants
Determination of Fe and Zn in a nickel sulfate bath containing surfactants after UV digestion.
- AN-V-027Copper in a nickel sulfate bath containing surfactants
Determination of Cu in a nickel sulfate bath containing surfactants after UV digestion.
- AN-V-028Zinc, cadmium, lead, nickel, and cobalt in hydrochloric acid
Determination of Zn, Cd, Pb, Ni, and Co in hydrochloric acid (37.8%).
- AN-V-029Zinc, cadmium, lead, nickel, and cobalt in Javelle water
Determination of Zn, Cd, Pb, Ni, and Co in Javelle water.
- AN-V-076金めっき液中のコバルト(Co)の濃度測定
コバルト(Co)は、5-スルホサリチル酸を支持電解液に、ジメチルグリオキシム(DMG)を錯化剤として用い、滴下水銀電極(DME)で高濃度の金(Au)の存在下で測定できます。
- AN-V-077Nickel and cobalt in zinc plant electrolytes (concentrated zinc sulfate solutions)
Nickel can be determined in concentrated zinc solutions by adsorptive stripping voltammetry (AdSV) at the HMDE using ammonia buffer as supporting electrolyte and dimethylglyoxime (DMG) as complexing agent. The determination of cobalt does not work under these conditions as the very high Zn2+ concentration interferes with the Co signal. Therefore, an alternative complexing agent has to be used: α-benzil dioxime in ammonia buffer under addition of sodium nitrite.
- AN-V-078ボルタンメトリー (VA) による亜鉛電解液中の全アンチモン（Sb）の測定
亜鉛製錬プラントの電解液中の全アンチモン（Sb）濃度は、5 mol/L の塩酸中でアノードストリッピングボルタンメトリー（ASV）により測定されます。 0.6 mol/L の塩酸を使用した場合には、アンチモン（III）の濃度のみが選択的に定量できます。 過剰に存在する銅（Cu）による妨害は、銅を選択的に酸化することによって抑制されます。 それにもかかわらず、試料中の銅濃度は、定量に使用できる試料量の上限を制限します。
- AN-V-079めっき液中のゲルマニウム(Ge)の濃度測定
ゲルマニウム(Ge)は、支持電解液として酢酸バッファー、錯化剤としてカテコールを用い、HMDEで吸着 ストリッピング ボルタンメトリー（AdSV）により測定することができます。
- AN-V-105Thallium in the presence of an excess of cadmium in zinc plant electrolytes (concentrated ZnSO4 solutions)
Thallium and cadmium can be determined by anodic stripping voltammetry (ASV) at the HMDE (Tl) and polarography at the DME (Cd), respectively using aqueous hydrochloric acid as supporting electrolyte. Since Cd is present in high excess and would therefore interfere with the determination of thallium, a post electrolysis procedure is applied to remove the co-deposited metal from the mercury drop.
- AN-V-111Germanium in zinc plant electrolytes (concentrated ZnSO4 solutions)
Germanium is determined by adsorptive stripping voltammetry (AdSV) at the HMDE using aqueous sulfuric acid as supporting electrolyte and pyrocatechol violet as complexing agent. It is possible to determine 20 µg/L Ge in a sample containing 150 g/L Zn, 3 g/L Cd and 1 mg/L Pb.
- AN-V-112ニッケルめっき液中のチオ尿素の濃度測定
チオ尿素は、pH 8.9 のアンモニア緩衝液中の HMDE でカソード ストリッピング ボルタンメトリー (CSV) によって測定されます。 サンプル中の塩化物はこの測定に干渉しません。
- AN-V-128電解クロムめっき液中の全鉄(T-Fe)の濃度測定
電解クロムめっき液中の全鉄(T-Fe)濃度をポーラログラフで測定します。この手法はppm範囲の濃度の鉄(Fe)に適してます。Fe(II)とFe(III)は同じ感度でシグナルを示します。
- AN-V-133抑制剤(サプレッサー) «Copper Gleam 2001 Carrier» (ローム・アンド・ハース) 酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS)を用いたDT法 (Dilution Titration technique)による酸性銅めっき液の抑制剤(サプレッサー)«Copper GleamTM 2001 Carrier» の濃度測定を説明します。
- AN-V-134光沢剤(ブライトナー) «Copper Gleam 2001 Additive» (ローム・アンド・ハース) 酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS) を用いたMLAT法（Modified Linear Approximation Technique)による酸性銅めっき液の光沢剤（ブライトナー） «Copper GleamTM 2001 Additive» の濃度測定を説明します。
- AN-V-135抑制剤(サプレッサー) «Cupracid BL-CT» (アトテック) 酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS)を用いたDT法 (Dilution Titration technique)による酸性銅めっき液の抑制剤(サプレッサー)«Cupracid BL-CT» の濃度測定を説明します。
- AN-V-136光沢剤(ブライトナー) «Cupracid BL» (アトテック) 酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS) を用いたLAT法（Linear Approximation Technique)による酸性銅めっき液の光沢剤（ブライトナー） «Cupracid BL» の濃度測定を説明します。
- AN-V-137抑制剤(サプレッサー) «Cupraspeed» (アトテック) 酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS)を用いたDT法 (Dilution Titration technique)による酸性銅めっき液の抑制剤(サプレッサー)«Cupraspeed» の濃度測定を説明します。
- AN-V-138光沢剤(ブライトナー) «Cupraspeed» (アトテック) 酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS) を用いたMLAT法（Modified Linear Approximation Technique)による酸性銅めっき液の光沢剤（ブライトナー） «Cupraspeed» の濃度測定を説明します。
- AN-V-140酸性銅めっき液中の全アンチモン(T-Sb)の濃度測定
塩酸を電解液として用いたアノード ストリッピング ボルタンメトリー により、酸性銅めっき液中の全アンチモン(Sb)濃度を測定しました。銅(Cu)が過剰であるため、析出電位はアンチモン(Sb)のシグナルより50mVだけマイナスに選ぶ必要があります。
- AN-V-141抑制剤(サプレッサー) «MACuSpec PPR 100 Wetter» (マクダーミッド) 酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS)を用いたDT法 (Dilution Titration technique)による酸性銅めっき液の抑制剤(サプレッサー)«MACuSpecTM PPR 100 Wetter» の濃度測定を説明します。
- AN-V-142光沢剤(ブライトナー) «MACuSpec PPR 100» (マクダーミッド) 酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS) を用いたMLAT法（Modified Linear Approximation Technique)による酸性銅めっき液の光沢剤（ブライトナー） «MACuSpecTM PPR 100 Brightener» の濃度測定を説明します。
- AN-V-143抑制剤(サプレッサー) «Multibond 100 Part A20» (マクダーミッド) 酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS)を用いたDT法 (Dilution Titration technique)による酸性銅めっき液の抑制剤(サプレッサー) «MultiBondTM 100 Part A20»の濃度測定を説明します。
- AN-V-144抑制剤(サプレッサー) «Ronastan TP Additive» (ローム・アンド・ハース) すず/鉛合金めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS)を用いたDT法 (Dilution Titration technique)によるすず/鉛合金めっき液の抑制剤(サプレッサー)«Ronastan TP Additive» の測定
- AN-V-145抑制剤(サプレッサー) «Solderon ST-200 Primary» (ローム・アンド・ハース) すずめっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS)を用いたDT法 (Dilution Titration technique)によるすずめっき液の抑制剤(サプレッサー) «Solderon ST-200 Primary» の濃度測定を説明します。
- AN-V-146抑制剤(サプレッサー) «InPulse H6» (アトテック) 酸性銅めっき液
Cyclic Pulse Voltammetric Stripping (CPVS)を用いたDT法 (Dilution Titration technique)による酸性銅めっき液の抑制剤(サプレッサー) «InPulse H6» の濃度測定を説明します。
- AN-V-147光沢剤(ブライトナー) «InPulse H6» (アトテック) 酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS) を用いたMLAT法（Modified Linear Approximation Technique)による酸性銅めっき液の光沢剤（ブライトナー）«InPulse H6»の濃度測定を説明します。
- AN-V-148スルファミン酸ニッケルめっき液中の ニッケル(Ni)の濃度測定
スルファミン酸ニッケルめっき液中の ニッケル(Ni)の濃度は、pH 9.6 のアンモニア緩衝液中でポーラログラフィーによって測定されます。
- AN-V-149スルファミン酸ニッケルめっき液中のコバルト(Co)の濃度測定
スルファミン酸ニッケルめっき液中の コバルト(Co) 濃度は、錯化剤としてジメチルグリオキシム (DMG) を用いたアンモニア緩衝液 pH 9.6 中での吸着ストリッピング ボルタンメトリー (AdSV) によって測定されます。 すべての試薬は、技術資料（アプリケーションノート）に記載されている順番で添加する必要があります。 錯化剤を添加する前に測定溶液を十分に混合するように特別な注意を払う必要があります。 Ni-DMG が沈殿した場合には、サンプルをさらに希釈する必要があります。
- AN-V-150ニッケルめっき液中の銅(Cu)の濃度測定
ニッケルめっき液中の 銅(Cu) の濃度は、pH 4.7 の酢酸緩衝液(塩化物含有)中でポーラログラフィーを用いて測定されます。
- AN-V-151無電解ニッケルめっき液中のアンチモン(III) (Sb(III))および全アンチモン(T-Sb)の濃度測定
無電解ニッケルめっき液中の アンチモン(III) (Sb(III)) および 全アンチモン(T-Sb) の濃度は、アノード ストリッピング ボルタンメトリー (ASV) によって測定されます。 c(HCl) = 0.6 mol/L では、Sb(III)濃度 のみが測定されます。 w(HCl) = 10% では、T-Sb 濃度が測定されます。
- AN-V-152シアン化金めっき液中のタリウム(Tl)の濃度測定
シアン化金めっき液中のタリウム(Tl)濃度は、電解液を添加することなく、アノード ストリッピング ボルタンメトリー（ASV）によって測定されます。
- AN-V-154シアン化金めっき液中の ニトリロ三酢酸(NTA) の濃度測定
シアン化金めっき液中の ニトリロ三酢酸(NTA) の濃度は、ポーラログラフィーによって Bi-NTA 錯体として測定されます。 標準添加標準液には Bi-NTA 標準液を用います。
- AN-V-155抑制剤(サプレッサー) «スルーカップ EVF-B»（上村工業）酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS)を用いたDT法 (Dilution Titration technique)による酸性銅めっき液の抑制剤(サプレッサー) «スルーカップ EVF-B» の濃度測定を説明します。
- AN-V-156光沢剤(ブライトナー) «スルカップEVF-1A»（上村工業）酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS) を用いたMLAT法（Modified Linear Approximation Technique)による酸性銅めっき液の光沢剤（ブライトナー） «スルーカップ EVF-1A» の濃度測定を説明します。
- AN-V-157平滑剤(レベラー) «スルカップEVF-R»（上村工業）酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS)を用いたRC法（Response Curve technique)による酸性銅めっき液の平滑剤(レベラー) «スルカップEVF-R» の濃度測定を説明します。
- AN-V-158すずめっき液中のインジウム(In)の濃度測定
スズ(Sn)めっき液中のインジウム(In)の濃度は、HCl (Urotropin®含有) 電解液中で、アノードストリッピングボルタンメトリー（ASV）により測定されます。測定は、測定容器内のインジウム(In)濃度に対して約0.5 mg/Lまで直線的です。標準添加溶液もHClとUrotropin®で調製します。
- AN-V-159すずめっき液中のビスマス(Bi)の濃度測定
すず(Sn)めっき液中のビスマス(Bi)の濃度は、HCl (Urotropin®含有) 電解液中で、アノードストリッピングボルタンメトリー（ASV）により測定されmます。測定開始までに少なくとも25分の反応時間が必要となります。標準添加溶液もHClとUrotropin®で調製します。
- AN-V-160Palladium in an activator
The concentration of Pd in an activator bath is determined by polarography in ammonium chloride electrolyte.
- AN-V-161シアン化銅めっき液中の銅(Cu)の濃度測定
シアン化銅めっき液中の銅(Cu)の濃度は、ポーラログラフィーによって測定されます。
- AN-V-162Iron in deoxidation solution (oxalate method)
The concentration of Fe(total) is determined by polarography in oxalate buffer pH 2. This method is suitable for iron concentrations in the mg/L range.
- AN-V-163脱脂液中の鉄(Fe)の濃度測定
全鉄(T-Fe) の濃度は、トリエタノールアミン (TEA) と KBrO3 を含むアルカリ電解液中でポーラログラフィーによって測定されます。 試薬には鉄不純物が含まれている恐れがありますので、試薬のブランクを差し引くことをお勧めします。
- AN-V-164チタン材料酸洗浄液中の チタン(Ti )の濃度測定
チタン材料酸洗浄液中の チタン(Ti )の濃度は、シュウ酸電解液中でのポーラログラフィーによって測定されます。
- AN-V-165りん酸塩処理液中の亜鉛(Zn)の濃度測定
りん酸-亜鉛処理液中の亜鉛(Zn)の濃度は、pH9.3アンモニア緩衝液中でポーラログラフィーによって測定されます。
- AN-V-166りん酸塩処理液中のニッケル(Ni)の濃度測定
りん酸-亜鉛処理液中のニッケル(Ni)の濃度は、pH9.3アンモニア緩衝液中でポーラログラフィーによって測定されます。
- AN-V-167りん酸塩処理液中のカドミウム(Cd)の濃度測定
りん酸-亜鉛処理液中のカドミウム(Cd)の濃度は、HCl電解液中でポーラログラフィーにより測定されます。
- AN-V-168りん酸塩処理液中の鉛(Pb)の濃度測定
りん酸-亜鉛処理液中の鉛(Pb)の濃度は、HCl電解液中でアノード ストリッピング ボルタンメトリー（ASV）により測定されます。
- AN-V-169Lead in tin soldering contacts
The concentration of Pb in Sn soldering contacts is determined by anodic stripping voltammetry (ASV) in an electrolyte containing citrate, oxalic acid, HCl, and cetyl trimethyl ammonium bromide.
- AN-V-170Selenium in zinc plant electrolyte
The concentration of Se(IV) in zinc plant electrolyte is determined by cathodic stripping voltammetry (CSV) in ammonium sulfate electrolyte containing EDTA and Cu. The Cu concentration has to be adapted to the sample and the deposition time. With voltammetry only free selenium is determined, therefore it has to be taken into consideration that selenium forms sparingly soluble compounds with numerous cations (e.g. Fe2(SeO3 )3 with Ks = 2·10-31).
- AN-V-171Tellurium in zinc plant electrolyte
The concentration of Te(IV) in Zn plant electrolyte is determined by cathodic stripping voltammetry (CSV) in ammonium sulfate electrolyte containing EDTA and Cu. To get a proper complexation of the interfering Zn a high amount of EDTA is necessary at pH 3.4.
- AN-V-172Cobalt in zinc plant electrolyte with a furildioxime as complexing agent
The concentration of Co in zinc plant electrolyte (neutral zinc sulfate solution) is determined by adsorptive stripping voltammetry (AdSV) in ammonia buffer with α-furildioxime as complexing agent.
- AN-V-173Lead in zinc sulfate solution
The concentration of Pb in zinc sulfate solution is determined by anodic stripping voltammetry (ASV) in hydrochloric acid electrolyte.
- AN-V-174Arsenic in zinc plant electrolyte
The concentration of As(total) in zinc plant electrolyte is determined by anodic stripping voltammetry (ASV) on a lateral gold electrode in HCl electrolyte. Due to the high excess of zinc in the sample the deposition potential has to be adapted. A second potential approx. 100 mV more negative than the arsenic signal has to be applied to selectively oxidize interfering antimony. For sample preparation the sample was passed through a cation exchange column to reduce the concentration of zinc in the measuring solution.
- AN-V-175Antimony(III) in zinc plant electrolyte with chloranilic acid as complexing agent
The concentration of of Sb(III) in zinc plant electrolyte is determined by adsorptive stripping voltammetry (AdSV) with chloranilic acid as complexing agent. In this method high copper concentrations do not interfere. An approx. 10-fold excess of lead interferes, since it shows a signal close to the antimony. With the parameters given below the working range of this method is 1 - 30 µg/L antimony(III) with respect to the concentration in the measuring vessel.
- AN-V-177クロムめっき液中の鉄(Fe)の濃度測定 (臭素酸トリエタノールアミン法)
全鉄(T-Fe)の濃度は、トリエタノールアミン(TEA)とKBrO3を含むアルカリ電解液中で、ポーラログラフィーにより測定されます。試薬には、Feを不純物として含む恐れがあります。そのため、試薬ブランクの差し引きが推奨されます。
- AN-V-182抑制剤(サプレッサー) «トップルチナa-M»（奥野製薬工業）酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS)を用いたDT法 (Dilution Titration technique)による酸性銅めっき液の抑制剤(サプレッサー) «トップルチナα-M» の濃度測定を説明します。
- AN-V-183光沢剤 (ブライトナー) «トップルチナa-2»（奥野製薬工業) 酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS) を用いたMLAT法（Modified Linear Approximation Technique)による酸性銅めっき液の光沢剤（ブライトナー） «トップルチナα-2» の濃度測定を説明します。
- AN-V-184平滑剤(レベラー) «トップ・ルチナa-3»（奥野製薬工業）酸性銅めっき液
Cyclic Voltammetric Stripping (CVS) を用いたRC法（Response Curve technique) による酸性銅めっき液の平滑剤(レベラー) «トップルチナα-3» の濃度測定を説明します。
- AN-V-195無電解ニッケル浴中のよう素酸の濃度測定
鉛は、かつて無電解ニッケルめっきプロセスで安定剤として一般的に使用されていました。安定剤濃度の定期的かつ正確な測定は、めっきプロセスを安定した条件下で正常に稼動させるために不可欠です。近年、消費者製品、特に電子機器への鉛の使用が制限されるようになったため、代替安定剤が開発・導入されました。鉛の代替として使用される安定剤のひとつに、ヨウ素酸（IO3-）があります。 無電解ニッケルめっきは、さまざまな工業生産プロセス（ハードディスクの生産、腐食や摩耗からの保護など）で使用されています。プリント基板(PCB)の製造におけるENIG(無電解ニッケル、無電解金)およびENEPIG(無電解ニッケル、無電解パラジウム、無電解金)プロセスは、無電解ニッケルめっきがプロセスの最初の工程であるため、無電解ニッケルめっきプロセスの最初のステップであるため、この工程の歩留まりに大きく関与しています。 ポーラログラフィーは、支持電解液で希釈した後のヨウ素酸の含有量を測定するために使用することができ、このアプリケーションのための簡単、高感度、選択的で干渉を受けることのない方法として確立されています。
