Hidróxido de tetrametilamonio (TMAH) en reveladores de material fotosensible

Los productos químicos utilizados en la producción de semiconductores deben presentar una limpieza extraordinaria, ya que incluso las trazas de contaminación pueden influir negativamente en las propiedades eléctricas. En la producción de circuitos impresos, algunos puntos definidos del material fotosensible aplicado al sustrato (oblea) se exponen a la luz con una plantilla de luz y se revelan en una reacción química. El revelador contiene del 2,38 al 2,62% de hidróxido de tetrametilamonio (TMAH) y se encarga de que las zonas expuestas a la luz se despeguen ligeramente del sustrato.

La monitorización de la concentración de TMAH en la solución de revelador se realiza con un analizador de procesos de Metrohm Applikon, configurado especialmente para la titulación. Además, el analizador ayuda a mezclar las soluciones.